[發(fā)明專利]一種磁控濺射沉積鐵膜和氧化鐵膜的方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810817871.0
• 申請(qǐng)日: 2018-07-23
• 公開（公告）號(hào): CN108611618A
• 公開（公告）日: 2018-10-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高斐;高蓉蓉;武鑫;王昊旭;雷婕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 陜西師范大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/18;C23C14/08
• 代理公司: 西安永生專利代理有限責(zé)任公司 61201
• 代理人: 高雪霞

1.一種磁控濺射沉積鐵膜和氧化鐵膜的方法，其特征在于：在靶槍和鐵靶之間放一個(gè)非鐵磁性的金屬圓片，采用磁控濺射在玻璃襯底上沉積一層鐵膜或氧化鐵膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射沉積鐵膜和氧化鐵膜的方法，其特征在于：所述非鐵磁性的金屬圓片為鋁圓片或銅圓片。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁控濺射沉積鐵膜和氧化鐵膜的方法，其特征在于：所述鋁圓片或銅圓片的厚度為3～5mm，直徑與鐵靶相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3任意一項(xiàng)所述的磁控濺射沉積鐵膜和氧化鐵膜的方法，其特征在于磁控濺射沉積鐵膜的具體操作過程為：將清洗干凈的玻璃襯底裝在磁控濺射設(shè)備的樣品夾具上，將非鐵磁性的金屬圓片放在靶槍上面，接著將鐵靶放在非鐵磁性的金屬圓片上，關(guān)上磁控濺射設(shè)備的真空室蓋子，用機(jī)械泵和分子泵將沉積室抽真空至5.0×10^-4～7.0×10^-4Pa，接著打開氬氣通氣閥，并打開質(zhì)量流量計(jì)，控制氬氣流速為25.0～30.0sccm，先調(diào)節(jié)沉積室壓強(qiáng)至1.5～2.0Pa、濺射功率為28～30W啟輝，再調(diào)節(jié)沉積室壓強(qiáng)至0.5～0.6Pa、濺射功率至110～115W，預(yù)濺射1～2分鐘以除去鐵靶表面的污染，接著打開擋板開始沉積，沉積結(jié)束后自然冷卻至室溫，即得到鐵膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～3任意一項(xiàng)所述的磁控濺射沉積鐵膜和氧化鐵膜的方法，其特征在于：其特征在于磁控濺射沉積氧化鐵膜的具體操作過程為：將清洗干凈的玻璃襯底裝在磁控濺射設(shè)備的樣品夾具上，將非鐵磁性的金屬圓片放在靶槍上面，接著將鐵靶放在非鐵磁性的金屬圓片上，關(guān)上磁控濺射設(shè)備的真空室蓋子，用機(jī)械泵和分子泵將沉積室抽真空至5.0×10^-4～7.0×10^-4Pa，接著打開氬氣通氣閥和氧氣通氣閥，并打開質(zhì)量流量計(jì)，控制氧氣流速為10.0～15.0sccm、氬氣流速為15.0～20.0sccm，并控制氬氣和氧氣的總流速為25.0～30.0sccm，先調(diào)節(jié)沉積室壓強(qiáng)至1.5～2.0Pa、濺射功率為28～30W啟輝，再調(diào)節(jié)沉積室壓強(qiáng)至0.5～0.6Pa、濺射功率至110～115W，預(yù)濺射1～2分鐘以除去鐵靶表面的污染，接著打開擋板開始沉積，沉積結(jié)束后自然冷卻至室溫，即得到氧化鐵膜。