[發(fā)明專利]一種背向沉積型金屬負(fù)極和背向沉積型金屬負(fù)極電池

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810811529.X
• 申請(qǐng)日: 2018-07-23
• 公開（公告）號(hào): CN110752346B
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳永翀;劉丹丹;滕勇強(qiáng);何穎源;王馨;張彬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京好風(fēng)光儲(chǔ)能技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01M4/13
• 分類號(hào): H01M4/13;H01M10/058;H01M10/052
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種背向沉積型金屬負(fù)極，其特征在于，所述背向沉積型金屬負(fù)極包括無孔電子絕緣層和兩個(gè)金屬負(fù)極部，每個(gè)金屬負(fù)極部包括負(fù)極集流層以及復(fù)合于所述負(fù)極集流層一側(cè)的有孔電子絕緣層，兩個(gè)所述金屬負(fù)極部的負(fù)極集流層相對(duì)放置，所述無孔電子絕緣層設(shè)置于兩個(gè)金屬負(fù)極部之間用以阻止離子穿過并電子絕緣，在所述金屬負(fù)極部和無孔電子絕緣層之間形成沉積腔，其中，在所述有孔電子絕緣層和負(fù)極集流層上相對(duì)應(yīng)的位置處設(shè)有供離子穿過的離子穿透通孔，以使離子能夠穿過所述離子穿透通孔并在所述負(fù)極集流層與有孔電子絕緣層非接觸側(cè)的表面經(jīng)過電化學(xué)還原反應(yīng)沉積為金屬層，且有孔電子絕緣層的離子穿透通孔的區(qū)域小于等于負(fù)極集流層的離子穿透通孔的區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述沉積腔為可容納金屬負(fù)極沉積的沉積空間，厚度為0.1mm～2mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述沉積腔的厚度為0.5mm～1.5mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，在所述沉積腔中設(shè)有絕緣支撐部件，用以保持所述金屬負(fù)極部與所述無孔電子絕緣層之間的沉積空間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述絕緣支撐部件包括墊圈、墊片、條狀波浪形構(gòu)件、多孔絕緣材料層和表面設(shè)有凸出部的多孔片中的一種或幾種。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述多孔絕緣材料層的材料包括多孔絕緣聚合物材料、多孔絕緣無機(jī)非金屬材料、絕緣無機(jī)非金屬材料與有機(jī)聚合物材料復(fù)合的多孔絕緣復(fù)合材料，上述任意一種多孔材料的孔隙率為30％～90％；其中，所述多孔絕緣聚合物材料為選自天然棉麻、滌綸、芳綸、尼龍、聚烯烴、聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯中的一種或幾種，所述絕緣無機(jī)非金屬材料為選自玻璃纖維布、陶瓷纖維紙類多孔絕緣無機(jī)非金屬材料中的一種或幾種或選自氧化硅、氮化硅、氧化鋁、氮化鋁中的一種或幾種，所述多孔絕緣復(fù)合材料中的有機(jī)聚合物材料為選自滌綸、芳綸、尼龍、聚烯烴、聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯中的一種或幾種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述金屬負(fù)極部的負(fù)極集流層的離子穿透通孔的等效孔徑為0.2mm～5mm；孔中心距為0.5mm～8mm；孔隙率為5％～70％。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述金屬負(fù)極部的負(fù)極集流層的離子穿透通孔的等效孔徑為0.4mm～2.5mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述金屬負(fù)極部的負(fù)極集流層的離子穿透通孔的等效孔徑為0.6mm～1.8mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述孔隙率為30％～60％。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述孔隙率為40％～50％。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述金屬負(fù)極部的有孔電子絕緣層的離子穿透通孔的等效孔徑為0.1mm～5mm；孔中心距為0.5mm～8mm；孔隙率為5％～70％。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述金屬負(fù)極部的有孔電子絕緣層的離子穿透通孔的等效孔徑為0.2mm～2.5mm。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述金屬負(fù)極部的有孔電子絕緣層的離子穿透通孔的等效孔徑為0.4mm～1.8mm。

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的背向沉積型金屬負(fù)極，其中，所述孔隙率為30％～60％。