[發明專利]一種紋理保護膜、終端及紋理保護膜的制作方法

在審

• 申請號: 201810809069.7
• 申請日: 2018-07-20
• 公開（公告）號: CN110733222A
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發明（設計）人: 王慧娥;李孟;李東亮
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: B32B27/36
• 分類號: B32B27/36;B32B7/12;B32B27/06;B32B3/12;B32B33/00;B32B37/00
• 代理公司: 11274 北京中博世達專利商標代理有限公司
• 代理人: 申健

1.一種紋理保護膜，其特征在于，包括：保護膜本體，所述保護膜本體的第一表面設有第一紋理層，所述保護膜本體的第二表面設有第二紋理層，所述第一表面與所述第二表面相對，所述第一紋理層與所述第二紋理層疊加形成干涉紋理圖案。

2.根據權利要求1所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層的圖案與所述第二紋理層的圖案相同，第二紋理層的圖案相對于第一紋理層的圖案偏轉一定角度，所述第一紋理層與所述第二紋理層疊加干涉形成摩爾紋圖案。

3.根據權利要求2所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層包括多條相互平行且間隔排列的第一直線條紋，所述第二紋理層包括多條相互平行且間隔排列的第二直線條紋，所述第一直線條紋在所述第二表面上的投影與所述第二直線條紋形成大于0度的夾角。

4.根據權利要求3所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一直線條紋沿垂直于所述第一表面的方向的厚度為2-20um，所述第二直線條紋沿垂直于所述第二表面的方向的厚度為2-20um。

5.根據權利要求3所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一直線條紋沿平行于所述第一表面的方向的寬度為20-200um，所述第二直線條紋沿平行于所述第二表面的方向的寬度為20-200um。

6.根據權利要求3-5中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述相鄰兩條所述第一直線條紋的間距為20-250um，所述相鄰兩條所述第二直線條紋的間距為20-250um。

7.根據權利要求3-6中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一直線條紋的外表面為圓弧面。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述保護膜本體為PET膜。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

10.根據權利要求1-9中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層遠離所述第一表面的一側設有第一光學膜，所述第二紋理層遠離所述第二表面的一側設有第二光學膜，所述第一光學膜和所述第二光學膜用于增加透光度、增加亮度和/或形成色彩。

11.一種終端，包括玻璃蓋板，所述玻璃蓋板的內表面貼附有權利要求1-10中任一項所述的紋理保護膜。

12.根據權利要求11所述的終端，其特征在于，所述終端包括中框主殼體，所述中框主殼體內設有顯示模組，所述中框主殼體的正面出光側設有正面玻璃蓋板，所述中框主殼體的背面設有背面玻璃蓋板，所述正面玻璃蓋板和/或所述背面玻璃蓋板的內表面貼附有所述紋理保護膜。

13.一種紋理保護膜的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

在保護膜本體的第一表面制作第一紋理層；

在保護膜本體與所述第一表面相對的第二表面上制作第二紋理層，所述第二紋理層與所述第一紋理層能夠疊加形成干涉紋理圖案。

14.根據權利要求13所述的紋理保護膜的制作方法，其特征在于，所述在保護膜本體的第一表面制作第一紋理層包括：在保護膜本體的第一表面涂覆UV膠層，并在UV膠層表面壓印微納米級別的溝槽紋理。

15.根據權利要求13所述的紋理保護膜的制作方法，其特征在于，所述在保護膜本體的第二表面制作第二紋理層包括：在保護膜本體的第二表面涂覆UV膠層，并在UV膠層表面壓印微納米級別的溝槽紋理。