[發(fā)明專利]一種銅/鉬蝕刻液組合物及其應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810795064.3
• 申請(qǐng)日: 2018-07-19
• 公開（公告）號(hào): CN108950557A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳豪旭;趙芬利;梅園
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/18
• 分類號(hào): C23F1/18;C23F1/26
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強(qiáng)

1.一種銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻液組合物包括如下重量分?jǐn)?shù)的各組分：過氧化氫5～30％，過氧化氫穩(wěn)定劑0.1～5％，蝕刻緩蝕劑0.001～0.2％，蝕刻添加劑5～20％，pH調(diào)節(jié)劑0.1～5％，蝕刻形狀控制劑2～15％，表面活性劑0.1～1％，以及余量的去離子水，所述蝕刻形狀控制劑為醇胺類化合物。

2.如權(quán)利要求1所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述醇胺類化合物包括碳原子數(shù)為1-10的烷醇胺，所述烷醇胺包括異丙醇胺、N-乙基乙醇胺、二甘醇胺、三異丙醇胺、一乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺和N,N-二乙基乙醇胺中的一種或多種。

3.如權(quán)利要求1所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述表面活性劑包括聚乙二醇、聚丙烯酸胺中的至少一種。

4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻形狀控制劑的重量分?jǐn)?shù)為2～10％。

5.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻形狀控制劑的重量分?jǐn)?shù)為5～15％。

6.如權(quán)利要求1所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻緩蝕劑選自苯并唑類化合物。

7.如權(quán)利要求1所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻添加劑選自酒石酸、丙二酸、苯甲酸、二乙醇酸、馬來酸、羥基丁酸、乳酸、琥珀酸、蘋果酸、乙醇酸、檸檬酸、鄰苯二甲酸、水楊酸、丙氨酸、天門冬酰胺和精氨酸中的至少一種。

8.如權(quán)利要求1所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述過氧化氫穩(wěn)定劑選自N-苯基脲、N,N'-二苯基脲、1,3-二乙基-1,3-二苯基脲、4-甲基硫代氨基脲和二苯氨基脲中的至少一種。

9.如權(quán)利要求1所述的銅/鉬蝕刻液組合物，其特征在于，所述pH調(diào)節(jié)劑選自磷酸鹽、磷酸氫鹽和有機(jī)次磷酸鹽中的至少一種，所述蝕刻液組合物的pH控制在3～6。

10.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的銅/鉬蝕刻液組合物在顯示面板制備中的應(yīng)用，所述應(yīng)用包括：采用所述銅/鉬蝕刻液組合物對(duì)銅/鉬膜進(jìn)行刻蝕以形成柵極和/或源漏極。