[發明專利]對圖案化結構的基于X射線的測量

有效

• 申請號: 201810790022.0
• 申請日: 2018-07-18
• 公開（公告）號: CN109283203B
• 公開（公告）日: 2023-09-12
• 發明（設計）人: 吉拉德·巴拉克
• 申請（專利權）人: 諾威有限公司
• 主分類號: G01N23/20
• 分類號: G01N23/20;G01N23/207
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 梁麗超;劉彬

1.一種用于對圖案化結構的基于X射線的測量的方法，所述方法包括：處理指示與圖案化結構對入射X射線輻射的檢測輻射響應相對應的測量信號的數據，并且從所述數據中減去無背景噪聲的有效測量信號，所述有效測量信號由反射衍射級的輻射分量形成，使得所述有效測量信號的基于模型解釋能夠實現確定所述圖案化結構的一個或多個參數，其中，所述處理包括：分析所述測量信號并且從所述測量信號中提取與所述背景噪聲對應的背景信號；以及向所述測量信號應用過濾處理以從所述測量信號中減去與所述背景信號對應的信號，產生所述有效測量信號，其中，所述測量信號的分析以及從所述測量信號中提取所述背景信號包括：處理所述測量信號以濾出與反射衍射級的輻射分量對應的信號，并且提取指示所述背景噪聲的背景簽名；向所述背景簽名應用擬合處理，隨后內插或外推所述背景簽名，產生表示跨整個圖像跨度的背景的圖像，以獲得所述背景信號。

2.根據權利要求1所述的方法，進一步包括：對所述背景信號進行圖像處理，以獲得代表所述背景信號的校正圖像，隨后將所述校正圖像用作要從所述測量信號中減去的與所述背景信號對應的信號。

3.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，包含于被提供的所述測量信號中的所述有效測量信號與所述結構的輻射響應中的反射級的預定角跨度φ_COL對應，使得不同反射級的輻射分量與檢測器的輻射敏感表面上的不同的空間分離的區域相互作用。

4.根據權利要求1至2中任一項所述的方法，包括：提供指示要在收集所述測量信號時使用的優化測量方案的數據，所述優化測量方案提供所述測量信號包括所述有效測量信號，其中，所述有效測量信號對應于所述結構的輻射響應中的反射級的角跨度φ_COL，使得不同反射級的輻射分量與檢測器的輻射敏感表面上的不同的空間分離的區域相互作用。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述優化測量方案包括相對于所述結構上的所述圖案的特征的取向的方位取向φ_ILL以及照明輻射的選定角跨度θ_ILL，使得使用照明輻射的所述選定角跨度φ_ILL在所述結構對所述照明輻射的輻射響應中提供反射級的所述角跨度φ_COL。

6.根據權利要求4所述的方法，包括：使用所述優化測量方案對所述圖案化結構執行一個或多個測量會話，以及生成指示所述測量信號的數據。

7.根據權利要求1或2所述的方法，進一步包括：向所述有效測量信號應用基于模型的擬合處理，以及確定所述圖案化結構的一個或多個參數。

8.一種控制單元，包括：數據輸入和輸出實用程序、存儲器實用程序以及處理器實用程序，所述處理器實用程序被配置為并且能操作以執行根據權利要求1至6中任一項所述的方法，以處理所述測量信號并且確定所述有效測量信號，并且生成表示所述有效測量信號的數據以進一步解釋并確定所述圖案化結構的一個或多個參數。

9.根據權利要求8所述的控制單元，進一步包括：測量方案控制器，被配置為并且能操作以分析指示被測量的所述結構上的圖案的輸入數據，并且生成指示相對于所述圖案的照明輻射的選定角跨度θ_ILL和方位取向θ_ILL的測量方案數據，以在所述結構的所述輻射響應中提供反射級的角跨度φ_COL，使得不同反射級的輻射分量與檢測器的輻射敏感表面上的不同的空間分離的區域相互作用，由此能夠實現從所檢測的測量信號中減去無背景噪聲的所述有效測量信號。