[發明專利]一種應用于印染行業的膜濃水處理系統

在審

• 申請號: 201810788920.2
• 申請日: 2018-07-18
• 公開（公告）號: CN108675506A
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發明（設計）人: 朱和林;方孟飛;鄧海靜;楊敏;陸芳軍
• 申請（專利權）人: 杭州開源環保工程有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04
• 代理公司: 北京中企訊知識產權代理有限公司 11677
• 代理人: 熊亮

1.一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：包括高級氧化反應系統和沉淀系統，所述高級氧化反應系統包括通過管路依次連接的集水池、污水提升泵和反應池，所述沉淀系統包括通過管路依次連接的沉淀池、外排池和外排泵，所述污水提升泵通過管路連接集水池的底部與反應池的上部，所述反應池配備加藥裝置和攪拌裝置，所述反應池的出水口通過管路連通至沉淀池的進水口，所述沉淀池包括中心筒、出水堰板和污泥斗，所述沉淀池的底部為排泥系統，沉淀池的上部出水至外排池，所述外排泵通過管路連接外排池的底部與外部污水管網，通過外部污水管網排放至大型污水處理廠進行處理。

2.根據權利要求1所述的一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：所述加藥裝置包括硫酸加藥系統、硫酸亞鐵加藥系統、雙氧水加藥系統、液堿加藥系統、PAM加藥系統和pH控制系統。

3.根據權利要求3所述的一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：所述反應池內每個加藥裝置對應的位置均設置攪拌裝置。

4.根據權利要求1所述的一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：所述中心筒連接反應池的出水口，所述出水堰板位于沉淀池的上部，且外排池通過出水堰板連通沉淀池內，所述污泥斗位于沉淀池底部。

5.根據權利要求4所述的一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：所述排泥系統為排污閥，所述排污閥位于污泥斗下方，且通過污泥斗連通沉淀池內。

6.根據權利要求2所述的一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：所述反應池內對應于硫酸加藥系統和液堿加藥系統處均設置有pH控制系統，通過pH控制系統控制pH在適當范圍內。

7.根據權利要求1所述的一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：所述集水池和外排池內均設置有液位傳感器。

8.根據權利要求1所述的一種應用于印染行業的膜濃水處理系統，其特征在于：所述反應池內設計玻璃鋼防腐處理。