[發(fā)明專利]顯示面板和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810784562.8 | 申請日: | 2018-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN108931869B | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 單劍鋒 | 申請(專利權(quán))人: | 惠科股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339;G02F1/1362;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳精智聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44393 | 代理人: | 鄧鐵華 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道水田村民*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
開關(guān)陣列基板,包括掃描線;
對向基板,與所述開關(guān)陣列基板相對設置,所述對向基板包括色阻層和多個間隔物,所述色阻層包括第一顏色色阻和第二顏色色阻,所述第一顏色色阻在所述開關(guān)陣列基板上的投影與所述掃描線具有第一重疊區(qū)域,所述第二顏色色阻在所述開關(guān)陣列基板上的投影與所述掃描線具有第二重疊區(qū)域,所述多個間隔物位于所述色阻層的鄰近所述開關(guān)陣列基板的一側(cè)且包括第一間隔物和第二間隔物;以及
顯示介質(zhì)層,設置在所述開關(guān)陣列基板和所述對向基板之間;
其中,所述第一間隔物位于所述第一顏色色阻的所述第一重疊區(qū)域內(nèi)并由所述第一顏色色阻支撐,所述第二顏色色阻的所述第二重疊區(qū)域內(nèi)形成有第一開孔、且所述第二間隔物位于所述第一開孔內(nèi),以及所述第一間隔物到所述開關(guān)陣列基板的第一距離小于所述第二間隔物到所述開關(guān)陣列基板的第二距離;
所述第一開孔在所述第二顏色色阻的寬度方向上貫穿所述第二顏色色阻;所述對向基板還包括:黑色矩陣,位于所述色阻層的遠離所述開關(guān)陣列基板的一側(cè);所述黑色矩陣在所述第二重疊區(qū)域內(nèi)設置有第二開孔,且所述第二開孔與所述第一開孔相連通,所述第二間隔物位于所述第二開孔內(nèi)以由所述第二開孔環(huán)繞。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第一間隔物與所述第二間隔物的高度差大于或等于所述第二顏色色阻形成所述第一開孔之前在所述第二重疊區(qū)域的初始厚度。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第一間隔物的高度大于所述第二間隔物的高度。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第二開孔與所述第一開孔的形狀相同且所述第一開孔的開孔尺寸大于所述第二開孔的開孔尺寸。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第一間隔物與所述第二間隔物的高度差大于或等于所述第二顏色色阻形成所述第一開孔之前在所述第二重疊區(qū)域的初始厚度與所述黑色矩陣形成所述第二開孔之前在所述第二重疊區(qū)域的初始厚度之和。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第一顏色色阻在所述第一重疊區(qū)域內(nèi)沿所述掃描線長度方向上的兩側(cè)邊界上設置有開口。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述對向基板還包括透明電極層,所述透明電極層位于所述色阻層的鄰近所述開關(guān)陣列基板的一側(cè)并覆蓋所述第一顏色色阻和所述第二顏色色阻,且所述透明電極層還位于所述第一開孔和所述第二開孔內(nèi);所述第一間隔物和所述第二間隔物位于所述透明電極層的鄰近所述開關(guān)陣列基板的一側(cè)。
8.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述對向基板還包括黑色矩陣和透明電極層,所述黑色矩陣位于所述色阻層的遠離所述開關(guān)陣列基板的一側(cè),所述透明電極層位于所述色阻層的鄰近所述開關(guān)陣列基板的一側(cè)并覆蓋所述第一顏色色阻和所述第二顏色色阻,且所述透明電極層還位于所述第一開孔內(nèi);所述第一間隔物和所述第二間隔物位于所述透明電極層的鄰近所述開關(guān)陣列基板的一側(cè)。
9.一種顯示裝置,包括第一偏振片、第二偏振片以及如權(quán)利要求1至8任意一項所述的顯示面板,所述第一偏振片和所述第二偏振片分設于所述顯示面板的相對兩側(cè)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





