[發(fā)明專利]投影模組、光電裝置和電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810769554.6
• 申請(qǐng)日: 2018-07-13
• 公開（公告）號(hào): CN110716377A
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林君翰;李宗政;陳冠宏;周祥禾;詹明山
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南昌歐菲生物識(shí)別技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03B21/20
• 分類號(hào): G03B21/20;G02B27/09
• 代理公司: 11201 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 黃德海

1.一種投影模組，其特征在于，所述投影模組包括：

光源，所述光源用于發(fā)射激光；

準(zhǔn)直元件，所述準(zhǔn)直元件用于準(zhǔn)直所述光源發(fā)射的激光；和

衍射光學(xué)元件，所述衍射光學(xué)元件包括相背的入射面及出射面，所述入射面與所述準(zhǔn)直元件相對(duì)并設(shè)置有菲涅爾微結(jié)構(gòu)，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)用于與所述準(zhǔn)直元件配合實(shí)現(xiàn)所述激光的準(zhǔn)直調(diào)整，所述衍射光學(xué)元件用于接收所述準(zhǔn)直元件準(zhǔn)直的所述激光并將所述激光擴(kuò)束以形成激光圖案。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影模組，其特征在于，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)包括包含所述入射面中心的第一區(qū)域及環(huán)繞所述第一區(qū)域的第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)的深度較所述第一區(qū)域的所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)的深度深。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影模組，其特征在于，所述出射面上設(shè)置有繞射微結(jié)構(gòu)，所述繞射微結(jié)構(gòu)用于將準(zhǔn)直的所述激光擴(kuò)束以形成激光圖案。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影模組，其特征在于，所述繞射微結(jié)構(gòu)為納米級(jí)繞射微結(jié)構(gòu)并均勻分布在所述出射面上；和/或

所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)為納米級(jí)菲涅爾微結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影模組，其特征在于，所述投影模組還包括棱鏡，所述棱鏡用于反射所述光源發(fā)出的激光以使所述激光垂直入射到所述準(zhǔn)直元件。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的投影模組，其特征在于，所述棱鏡、所述準(zhǔn)直元件和所述衍射光學(xué)元件沿出光光路依次設(shè)置，所述棱鏡包括反射面，所述光源包括發(fā)光面，所述發(fā)光面與所述反射面間隔相對(duì)并互成夾角。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影模組，其特征在于，所述光源包括垂直腔面發(fā)射器或邊發(fā)射型激光器。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影模組，其特征在于，具有所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)的所述入射面為非球面。

9.一種光電裝置，其特征在于，所述光電裝置包括：

權(quán)利要求1至8任意一項(xiàng)所述的投影模組，所述投影模組用于朝目標(biāo)物體發(fā)射激光圖案；和

相機(jī)模組，所述相機(jī)模組用于接收經(jīng)目標(biāo)物體調(diào)制后的激光圖案。

10.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備包括：

殼體；和

權(quán)利要求9所述的光電裝置，所述光電裝置設(shè)置在所述殼體上以獲取圖像。