[發明專利]一種基于UE密度的基站控制方法、裝置有效
| 申請號: | 201810769165.3 | 申請日: | 2018-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN108924746B | 公開(公告)日: | 2020-10-23 |
| 發明(設計)人: | 吳曉鸰;詹彬 | 申請(專利權)人: | 廣東工業大學 |
| 主分類號: | H04W4/02 | 分類號: | H04W4/02;H04W4/021;H04W16/10;H04W24/04;H04W40/32;G06K9/62 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 羅滿 |
| 地址: | 510006 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 ue 密度 基站 控制 方法 裝置 | ||
1.一種基于UE密度的基站控制方法,其特征在于,包括:
利用指定區域內的各個基站,獲取所述指定區域內各個UE分別對應的地理位置,并添加至地理位置集合中;
構造與所述地理位置集合匹配的泰森多邊形圖;
按照所述泰森多邊形圖中各個泰森多邊形的幾何特征,對所述指定區域進行劃分,獲得K個子區域;
計算各個所述子區域的UE密度;
對所述指定區域內的各個子區域,分別利用對應的UE密度對子區域內的基站進行調整;
其中,所述構造與所述地理位置集合匹配的泰森多邊形圖,包括:
在所述地理位置集合中,隨機選擇一個UE作為初始點,并利用所述初始點計算出K個類簇中心點;
將K個所述類簇中心點作為構造泰森多邊形的質心,構造與所述地理位置集合匹配的泰森多邊形圖。
2.根據權利要求1所述的基于UE密度的基站控制方法,其特征在于,利用所述初始點計算出K個類簇中心點,包括:
將所述初始點作為第一個類簇中心點;
選擇與第一個類簇中心點距離最遠的UE作為第二個類簇中心點;
依次選擇與已有的各個所述類簇中心點的最近距離之和最大的UE作為新增類簇中心點,直到所述類簇中心點的個數為K。
3.根據權利要求1所述的基于UE密度的基站控制方法,其特征在于,所述將K個所述類簇中心點作為構造泰森多邊形的質心,構造與所述地理位置集合匹配的泰森多邊形圖,包括:
建立一個包括所述地理位置集合的所有UE的目標幾何圖形;其中所述目標幾何圖形為三角形或多邊形;
向所述目標幾何圖形中依次插入K個所述類簇中心點,對每個新插入的類簇中心點與包含自身的三角形三個頂點相連,形成三角網;
利用空外接圓檢測對所述三角網進行LOP優化,獲得Delaunay三角網;
連接所述Delaunay三角網的三角形外接圓圓心,獲得泰森多邊形圖。
4.根據權利要求1所述的基于UE密度的基站控制方法,其特征在于,在所述獲得K個子區域之后,還包括:
在K個所述子區域中分別計算質心,并將計算出的質心作為類簇中心點;
重復執行所述將K個所述類簇中心點作為構造泰森多邊形的質心,構造與所述地理位置集合匹配的泰森多邊形圖的步驟,以修正子區域。
5.根據權利要求4所述的基于UE密度的基站控制方法,其特征在于,修正子區域,包括:
判斷獲得的最新子區域與上一次獲得的子區域是否一致;
如果是,則計算各個所述子區域的UE密度;
如果否,則在K個所述子區域中分別計算質心,并將計算出的質心作為類簇中心點的步驟。
6.根據權利要求1至5任一項所述的基于UE密度的基站控制方法,其特征在于,所述對所述指定區域內的各個子區域,分別利用對應的UE密度對子區域內的基站進行調整,包括:
對所述指定區域內的各個子區域,利用當前UE密度和歷史UE密度,預估未來UE密度;
利用所述未來UE密度,對子區域內的基站進行調整。
7.一種基于UE密度的基站控制裝置,其特征在于,包括:
地理位置集合,用于利用指定區域內的各個基站,獲取所述指定區域內各個UE分別對應的地理位置,并添加至地理位置集合中;
泰森多邊形圖構造模塊,用于構造與所述地理位置集合匹配的泰森多邊形圖;
區域劃分模塊,用于按照所述泰森多邊形圖中各個泰森多邊形的幾何特征,對所述指定區域進行劃分,獲得K個子區域;
UE密度計算模塊,用于計算各個所述子區域的UE密度;
基站調整模塊,用于對所述指定區域內的各個子區域,分別利用對應的UE密度對子區域內的基站進行調整;
其中,所述泰森多邊形圖構造模塊,包括:
類簇中心點計算單元,用于在所述地理位置集合中,隨機選擇一個UE作為初始點,并利用所述初始點計算出K個類簇中心點;
泰森多邊形圖構建單元,用于將K個所述類簇中心點作為構造泰森多邊形的質心,構造與所述地理位置集合匹配的泰森多邊形圖。
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