[發明專利]一種高強石墨烯膜及其制備方法有效
| 申請號： | 201810753273.1 | 申請日： | 2018-07-10 |
| 公開（公告）號： | CN108821263B | 公開（公告）日： | 2020-02-07 |
| 發明（設計）人： | 高超;彭蠡;劉一晗;郭燕 | 申請（專利權）人： | 杭州高烯科技有限公司;浙江大學 |
| 主分類號： | C01B32/184 | 分類號： | C01B32/184;C01B32/194 |
| 代理公司： | 33200 杭州求是專利事務所有限公司 | 代理人： | 黃歡娣;邱啟旺 |
| 地址： | 311113 浙江省杭州市*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 石墨烯膜 制備 電導率 高強度石墨 高溫石墨化 氧化石墨烯 薄膜整體 導電器件 高強石墨 化學還原 交聯結構 金屬噴涂 強度可調 真空過濾 整體薄膜 中溫碳化 氯化 石墨烯 層間 成膜 可控 可用 片層 | ||
【權利要求書】：
1.一種超薄高強石墨烯膜的制備方法，其特征在于，包含如下步驟：
（1）將氧化石墨烯配制成濃度為0.5-10μg/mL氧化石墨烯水溶液，抽濾成膜；
（2）將貼附于抽濾基底上的氧化石墨烯膜置于密閉容器中，80-100℃HI高溫從底部往上熏蒸0.1-1h；
（3）將融化的固體轉移劑均勻涂敷在還原氧化石墨烯膜表面，并于室溫下緩慢冷卻，直至薄膜和基底分離；
（4）對步驟（3）處理后的還原氧化石墨烯膜進行加熱處理，使得固體轉移劑升華或者揮發；
（5）用磁控濺射的方式在化學還原的石墨烯膜表面噴涂一層金屬鈦，鉬或者鈷，濺射的金屬摩爾量不大于石墨烯膜中碳原子摩爾量的30%；
（6）800-1200℃下將濺射有金屬的石墨烯膜進行氯化處理，金屬納米粒子以氯化物形式逸散；
（7）氯化后的石墨烯膜置于高溫爐中，以5-20℃每分鐘升溫至1500℃，然后以2-5℃每分鐘升溫至2000℃高溫，得到層間交聯的石墨烯膜。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的固體轉移劑選自石蠟、樟腦、松香。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的固體轉移劑的升華溫度要控制在320度以下。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，氯化過程中氯氣含量0.5-10%，時間為0.1-4h。
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