[發(fā)明專利]一種平面復(fù)合加熱器的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810753176.2
• 申請日: 2018-07-10
• 公開（公告）號: CN108863443B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉汝強;王殿春;孫蕾;趙旭榮;張佳偉
• 申請（專利權(quán)）人: 山東國晶新材料有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;C04B35/52;H05B3/14
• 代理公司: 濟南金迪知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219
• 代理人: 張宏松

1.一種平面復(fù)合加熱器的制備方法，包括步驟：

（1）平面加熱器的基體為熱解氮化硼基體，將熱解氮化硼基體表面采用100-500目砂紙打磨，打磨至基體表面粗糙度為Ra：0.5～4.0微米；

所述的熱解氮化硼基體是按如下方法制備得到的：

以石墨平板為基片，用500-5000目的砂紙?zhí)幚砘砻?，使基片表面的粗糙度?.5mm，然后將處理后的基片放入化學(xué)氣相沉積反應(yīng)爐內(nèi)，在溫度1600-1850℃，壓力30-300Pa條件下，以氮氣作為載氣，將NH₃：BCl₃按流量比為（1-10）：1的比例通入到反應(yīng)爐內(nèi)，使石墨平板表面沉積上熱解氮化硼，得到熱解氮化硼基體；熱解氮化硼在石墨平板上的沉積速度為10-100微米/小時，沉積上熱解氮化硼的厚度為0.5-3mm；石墨平板為圓形平板，直徑為10-200mm；

（2）將步驟（1）處理后的熱解氮化硼基體裝入CVD反應(yīng)爐中涂覆一層厚度為10-300μm的熱解石墨涂層，涂覆過程中控制溫度為1200-1700℃，壓力為100-1000Pa，氣體比例為：惰性氣體：甲烷=1-30:1；

涂覆熱解石墨涂層的具體步驟如下：

將處理后的熱解氮化硼基體懸掛到反應(yīng)爐內(nèi)，關(guān)閉爐蓋，升溫抽真空，升溫溫度控制1550～1650℃，反應(yīng)爐內(nèi)壓力控制在200-300Pa；以惰性氣體作為載氣，將甲烷通入到反應(yīng)爐內(nèi)，使熱解氮化硼基體表面上以10-100微米/小時的沉積速度沉積上一層熱解石墨涂層，熱解石墨涂層厚度為100-200μm；

（3）將步驟（2）涂覆熱解石墨涂層后的基體表面加工花紋，

（4）將加工完花紋后的基體 再次裝入CVD反應(yīng)爐內(nèi)，涂覆一層厚度為10-300μm熱解氮化硼涂層，冷卻，即得平面復(fù)合加熱器。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面復(fù)合加熱器的制備方法，其特征在于，所述的惰性氣體為氮氣，惰性氣體：甲烷的體積比為2-6:1。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面復(fù)合加熱器的制備方法，其特征在于，步驟（3）中加工花紋后使總電阻值達到1-100Ω。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面復(fù)合加熱器的制備方法，其特征在于，步驟（4）中，涂覆熱解氮化硼涂層是：在溫度1700-1850℃，壓力30-200Pa條件下，以氮氣作為載氣，將NH₃：BCl₃按流量比為（1-7）：1的比例通入到反應(yīng)爐內(nèi)，使熱解石墨涂層表面涂覆一層熱解氮化硼。