[發明專利]用于閘入基板的處理裝置和方法有效
| 申請號: | 201810751402.3 | 申請日: | 2018-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN109234709B | 公開(公告)日: | 2021-10-15 |
| 發明(設計)人: | 邁克·菲盧夫;約爾格·法貝爾 | 申請(專利權)人: | 馮·阿登納資產股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54;C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王小衡;王朝輝 |
| 地址: | 德國德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 閘入基板 處理 裝置 方法 | ||
1.一種處理裝置(100),具有:
·成形設備(102),其具有成形區域(112),用于在斷續的成形過程中成形帶式基板(120);
·涂層設備(106),其具有涂層區域(116),用于在連續的涂層過程中對所述帶式基板(120)涂層;
·緩沖設備(104),具有緩沖區域(114),用于容納所述帶式基板(120)的部段(122);
·帶運輸設備(108),用于斷續地運輸所述帶式基板(120)穿過所述成形區域(112)進入所述緩沖區域(114)并且用于連續地運輸帶式基板(120)離開所述緩沖區域(114)進入所述涂層區域(116);
·其中所述成形設備(102)構建為,在所述帶式基板(120)中產生預定義的期望彎折部位(120k)并且其中所述緩沖設備(104)和帶運輸設備(108)構建為使得所述帶式基板(120)在所述緩沖區域(114)中分別在預定義的所述期望彎折部位(120k)處被彎折。
2.根據權利要求1所述的處理裝置(100),其中,所述成形設備(102)構建為使得所述預定義的期望彎折部位(120k)橫向于所述帶式基板(120)的運輸方向(101)地延伸并且在運輸方向(101)上彼此間隔開地設置。
3.根據權利要求1或2所述的處理裝置(100),其中,所述成形設備(102)構建為使得所述預定義的期望彎折部位(120k)借助壓印、穿孔和/或分部段地沖制來產生。
4.根據權利要求1所述的處理裝置(100),其中,所述成形設備(102)還構建為,使得分別在兩個相鄰的預定義的期望彎折部位(120k)之間在所述帶式基板(120)中產生壓印結構(322)。
5.根據權利要求4所述的處理裝置(100),其中,所述涂層設備(106)構建為使得分別至少所述帶式基板(120)的相應的所述壓印結構(322)被涂層。
6.根據權利要求1所述的處理裝置(100),其中,所述涂層設備(106)構建為真空涂層設備用以執行化學或物理氣相沉積。
7.根據權利要求1所述的處理裝置(100),其中,所述涂層設備(106)具有處理腔室(206k),所述涂層區域(116)設置在所述處理腔室中,并且其中所述涂層設備(106)具有帶式輸入閘門(202e)用以運輸所述帶式基板(120)進入所述至少一個處理腔室(206k)并且所述涂層設備(106)具有帶式輸出閘門(202a),用于將所述帶式基板(120)運輸離開所述至少一個處理腔室(206k)。
8.根據權利要求7所述的處理裝置(100),其中,所述帶式輸入閘門(202e)和/或所述帶式輸出閘門(202a)構建為使得所述帶式基板(120)能夠在兩個閘門輥(302)之間引導穿過并且在兩個閘門輥(302)之間能夠在平面的區域(308)中被接觸。
9.根據權利要求7所述的處理裝置(100),其中,所述帶式輸入閘門(202e)和/或所述帶式輸出閘門(202a)構建為使得密封帶(332)能夠在兩個輥(330a,330b)之間連續環繞地引導并且所述密封帶(332)能夠在平面的區域(308)中接觸所述帶式基板(120)。
10.根據權利要求8或9所述的處理裝置(100),其中,所述平面的區域(308)沿著運輸方向(101)具有大于10cm的長度。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





