[發(fā)明專利]一種基于分離磁性隧道結(jié)與探針磁讀寫(xiě)頭的磁性存儲(chǔ)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810750103.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109192232B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 游龍;洪正敏;李仕豪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G11C11/16 | 分類號(hào): | G11C11/16;G11C11/15 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 李智;曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 分離 磁性 隧道 探針 讀寫(xiě) 存儲(chǔ) 裝置 | ||
1.一種基于分離磁性隧道結(jié)與探針磁讀寫(xiě)頭的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,
所述磁性存儲(chǔ)裝置的磁讀寫(xiě)頭和存儲(chǔ)介質(zhì)相互分離;
所述磁讀寫(xiě)頭為探針結(jié)構(gòu);
所述分離磁性隧道結(jié)的固定層位于所述磁讀寫(xiě)頭的尖端處,所述分離磁性隧道結(jié)的自由層位于存儲(chǔ)介質(zhì)的表面,所述分離磁性隧道結(jié)的隧穿層位于所述固定層表面、所述自由層表面中至少一個(gè)。
2.如權(quán)利要求1所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述磁讀寫(xiě)頭包括基體層和尖端,所述尖端包含釘扎層和固定層,所述磁讀寫(xiě)頭讀寫(xiě)一體化。
3.如權(quán)利要求1或2所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,磁性存儲(chǔ)裝置包括自組裝隔離型存儲(chǔ)器和硬盤。
4.如權(quán)利要求3所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述磁性存儲(chǔ)裝置是自組裝隔離型存儲(chǔ)器,所述存儲(chǔ)介質(zhì)采用自組裝隔離型薄膜技術(shù)。
5.如權(quán)利要求4所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)介質(zhì)為平面薄膜結(jié)構(gòu),包括基體層、隔離層和自由層;
所述基體層起導(dǎo)電和主體支撐作用,所述隔離層是非鐵磁材料,起到隔離作用,所述自由層是鐵磁性柱體,被隔離層隔離開(kāi);
每個(gè)鐵磁性柱體代表一個(gè)存儲(chǔ)單元,其磁化狀態(tài)表示存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)。
6.如權(quán)利要求3所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述磁性存儲(chǔ)裝置是硬盤,所述存儲(chǔ)介質(zhì)是硬盤盤面,包括基體層和自由層,基體層起導(dǎo)電和主體支撐作用,自由層是硬盤盤面生長(zhǎng)的磁性層。
7.如權(quán)利要求1或2所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述磁性存儲(chǔ)裝置通過(guò)磁讀寫(xiě)頭和存儲(chǔ)介質(zhì)的點(diǎn)接觸形成完整的磁性隧道結(jié)并使電流導(dǎo)通,利用自旋轉(zhuǎn)移力矩效應(yīng)實(shí)現(xiàn)寫(xiě)操作,利用隧穿磁電阻效應(yīng)實(shí)現(xiàn)讀操作。
8.如權(quán)利要求7所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述利用自旋轉(zhuǎn)移力矩效應(yīng)實(shí)現(xiàn)寫(xiě)操作寫(xiě)入數(shù)據(jù)操作,具體包括:
在磁讀寫(xiě)頭和存儲(chǔ)介質(zhì)間施加一個(gè)大電壓,根據(jù)自旋轉(zhuǎn)移力矩效應(yīng),電流會(huì)攜帶自旋力矩改寫(xiě)自由層的磁化方向,如果目標(biāo)是使自由層和固定層磁化方向相同,電流施加的方向應(yīng)是從自由層到固定層,即從存儲(chǔ)介質(zhì)到磁讀寫(xiě)頭;如果目標(biāo)是使自由層和固定層磁化方向相反,電流施加的方向應(yīng)是從固定層到自由層,即從磁讀寫(xiě)頭到存儲(chǔ)介質(zhì),就可以通過(guò)控制電流的方向?qū)懭?或者1。
9.如權(quán)利要求7所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述利用隧穿磁電阻效應(yīng)實(shí)現(xiàn)讀操作,具體包括:
在磁讀寫(xiě)頭和存儲(chǔ)介質(zhì)間施加一個(gè)小電壓,根據(jù)隧穿磁電阻效應(yīng),如果自由層磁化方向與固定層的磁化方向相同,那么為低電阻態(tài);如果自由層磁化方向與固定層的磁化方向相反,那么為高電阻態(tài),自由層磁化方向表示存儲(chǔ)的數(shù)據(jù),根據(jù)電阻大小可以判斷存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)是0還是1。
10.如權(quán)利要求4所述的磁性存儲(chǔ)裝置,其特征在于,基體層材料是導(dǎo)電半導(dǎo)體材料或?qū)щ娊饘俨牧希会斣鷮邮氰F磁層/反鐵磁層結(jié)構(gòu)或反鐵磁層/非磁金屬層結(jié)構(gòu),所述鐵磁層材料是CoMnSi、CoFeSi、CoCr、FeNi、FeCo、Fe、Co、Ni,反鐵磁材料是FeMn、IrMn、CoO、NiO,非磁金屬材料是Cu、Au、Pt、Ta、Ru;固定層材料是CoFeB、CoMnSi、CoFeSi、CoFeAl、GaMnAs、CoFeAlSi、CoFe、FePt、CoPt、FeNi、Fe、Co、Ni;隧穿層材料是MgO、Al2O3、AlOx、TiO2、HfO2、MgAlO4、AlN、BN;自由層材料是CoFeB、CoMnSi、CoFeSi、CoFeAl、GaMnAs、CoFeAlSi、CoFe、FePt、CoPt、FeNi、Fe、Co、Ni;隔離層材料是ZrO2、MgO。
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