[發(fā)明專利]球柵陣列的封裝結構及其封裝方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810738791.6 | 申請日: | 2018-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN108899283B | 公開(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 梁新夫;王亞琴 | 申請(專利權)人: | 江蘇長電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48;H01L23/498 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 蘇婷婷 |
| 地址: | 214431 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 封裝 結構 及其 方法 | ||
1.一種球柵陣列的封裝方法,其特征在于,所述封裝方法包括:
提供一基板,所述基板的一側表面至少具有用于設置焊球的第一區(qū)域及第二區(qū)域;所述第一區(qū)域對應功能芯片;
于所述第一區(qū)域焊接至少一個第一焊球,于所述第二區(qū)域焊接至少一個第二焊球,所述第一焊球與所述第二焊球的至少一參數(shù)不同,所述參數(shù)包括熱傳導性能、熱膨脹系數(shù)及尺寸;
其中,所述第一焊球具有第一熱傳導性能,所述第二焊球具有第二熱傳導性能,所述第一熱傳導性能高于所述第二熱傳導性能;
所述第一焊球的熱膨脹系數(shù)高于所述第二焊球的熱膨脹系數(shù);
所述第一焊球具有第一尺寸,所述第二焊球具有第二尺寸,所述第一尺寸等于所述第二尺寸。
2.根據權利要求1所述的球柵陣列的封裝方法,其特征在于,所述第一焊球為金屬焊球,所述第二焊球為樹脂焊球或全錫焊球至少其中之一;所述金屬焊球包括:第一內核及包覆第一內核的第一外核,所述第一內核為熱傳導性能及熔點均高于錫的金屬材質,所述第一外核為錫材質;所述樹脂焊球包括:第二內核及包覆第二內核的第二外核,所述第二內核為樹脂材質,所述第二外核為錫材質;所述全錫焊球的材質為錫;所述樹脂焊球的熱膨脹系數(shù)低于所述金屬焊球的熱膨脹系數(shù);所述全錫焊球的熱膨脹系數(shù)低于所述金屬焊球的熱膨脹系數(shù)。
3.根據權利要求1所述的球柵陣列的封裝方法,其特征在于,所述第一焊球為全錫焊球,所述第二焊球包括樹脂焊球;
所述樹脂焊球包括:第二內核及包覆第二內核的第二外核,所述第二內核為樹脂材質,所述第二外核為錫材質;所述全錫焊球的材質為錫;所述樹脂焊球的熱膨脹系數(shù)低于所述全錫焊球的熱膨脹系數(shù),所述樹脂焊球的熱傳導性能低于所述全錫焊球的熱傳導性能。
4.根據權利要求3所述的球柵陣列的封裝方法,其特征在于,所述第二焊球還包括全錫焊球。
5.一種球柵陣列的封裝結構,所述封裝結構包括:基板,設置于所述基板上表面的元器件,用于封裝所述元器件的塑封料,以及植入所述基板下方的焊球;
其特征在于,所述焊球包括至少一參數(shù)不同的第一焊球及第二焊球,所述參數(shù)包括熱傳導性能、熱膨脹系數(shù)及尺寸;
所述基板下表面至少具有用于植入第一焊球的第一區(qū)域及用于植入第二焊球的第二區(qū)域;
所述元器件包括功能芯片,對應所述功能芯片的基板下方為第一區(qū)域;
其中,所述第一焊球具有第一熱傳導性能,所述第二焊球具有第二熱傳導性能,所述第一熱傳導性能高于所述第二熱傳導性能;
所述第一焊球的熱膨脹系數(shù)高于所述第二焊球的熱膨脹系數(shù);
所述第一焊球具有第一尺寸,所述第二焊球具有第二尺寸,所述第一尺寸等于所述第二尺寸。
6.根據權利要求5所述的球柵陣列的封裝結構,其特征在于,所述第一焊球為金屬焊球,所述第二焊球為樹脂焊球或全錫焊球至少其中之一;
所述金屬焊球包括:第一內核及包覆第一內核的第一外核,所述第一內核為熱傳導性能及熔點均高于錫的金屬材質,所述第一外核為錫材質;所述樹脂焊球包括:第二內核及包覆第二內核的第二外核,所述第二內核為樹脂材質,所述第二外核為錫材質;所述全錫焊球的材質為錫;所述樹脂焊球的熱膨脹系數(shù)低于所述金屬焊球的熱膨脹系數(shù);所述全錫焊球的熱膨脹系數(shù)低于所述金屬焊球的熱膨脹系數(shù)。
7.根據權利要求5所述的球柵陣列的封裝結構,其特征在于,所述第一焊球為全錫焊球,所述第二焊球包括樹脂焊球;
所述樹脂焊球包括:第二內核及包覆第二內核的第二外核,所述第二內核為樹脂材質,所述第二外核為錫材質;所述全錫焊球的材質為錫;所述樹脂焊球的熱膨脹系數(shù)低于所述全錫焊球的熱膨脹系數(shù),所述樹脂焊球的熱傳導性能低于所述全錫焊球的熱傳導性能。
8.根據權利要求7所述的球柵陣列的封裝結構,其特征在于,所述第二焊球還包括全錫焊球。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





