[發(fā)明專利]一種振動(dòng)部件裂紋測(cè)量中視場(chǎng)內(nèi)誤差修正方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810738333.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109060819B | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李閔行;郭佳;寧寧;白瑋;祁小鳳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)飛機(jī)強(qiáng)度研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京航信高科知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11526 | 代理人: | 高原 |
| 地址: | 710065 陜*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 振動(dòng) 部件 裂紋 測(cè)量 中視 場(chǎng)內(nèi) 誤差 修正 方法 | ||
1.一種振動(dòng)部件裂紋測(cè)量中視場(chǎng)內(nèi)誤差修正方法,其特征在于,所述振動(dòng)部件裂紋測(cè)量中視場(chǎng)內(nèi)誤差修正方法包括如下步驟:
步驟1:獲取試驗(yàn)參數(shù);
步驟2:獲取振動(dòng)視場(chǎng)內(nèi)精度修正模型;
步驟3:獲取試驗(yàn)件向上振動(dòng)時(shí)像素誤差公式以及獲取試驗(yàn)件向下振動(dòng)時(shí)像素誤差公式;
步驟4:根據(jù)步驟3中的試驗(yàn)件向上振動(dòng)時(shí)像素誤差公式獲取向上振動(dòng)時(shí)像素誤差,以及根據(jù)步驟3中的試驗(yàn)件向下振動(dòng)時(shí)像素誤差公式獲取向下振動(dòng)時(shí)像素誤差;
步驟5:將所述步驟4中獲得的向上振動(dòng)時(shí)像素誤差以及向下振動(dòng)時(shí)像素誤差代入所述振動(dòng)視場(chǎng)內(nèi)精度修正模型,計(jì)算得到修正后的向上振動(dòng)時(shí)像素誤差以及修正后的向下振動(dòng)時(shí)像素誤差;
步驟1中所述試驗(yàn)參數(shù)包括:視場(chǎng)半徑x,像元尺寸r,物距h,焦距F;
步驟2中獲取振動(dòng)視場(chǎng)內(nèi)精度修正模型,獲取過(guò)程具體為:
計(jì)算視場(chǎng)偏角θ的正切值:
其中,x為視場(chǎng)半徑,h為物距;
當(dāng)發(fā)生振動(dòng)時(shí),物距h會(huì)產(chǎn)生向上或向下變化,變化量為Δh,則
因此,振動(dòng)視場(chǎng)內(nèi)精度修正模型為:
Δx=Δh×tanθ;
步驟3中獲取試驗(yàn)件向上振動(dòng)時(shí)像素誤差公式以及獲取試驗(yàn)件向下振動(dòng)時(shí)像素誤差公式包括:
當(dāng)物距為h時(shí),像素對(duì)應(yīng)空間尺寸D=r×h/F;
當(dāng)試驗(yàn)件向上振動(dòng)時(shí),像素對(duì)應(yīng)空間尺寸D1=r×h1/F;
當(dāng)試驗(yàn)件向下振動(dòng)時(shí),像素對(duì)應(yīng)空間尺寸D2=r×h2/F;
其中:
h1=h-Δh;
h2=h+Δh;
假設(shè)被測(cè)量為L(zhǎng),則,總長(zhǎng)度的像素值為:
當(dāng)試驗(yàn)件向上振時(shí)的總長(zhǎng)度像素值:
當(dāng)試驗(yàn)件向下振時(shí)的總長(zhǎng)度像素值:
當(dāng)試驗(yàn)件向上振時(shí)的像素誤差:R1=(D1-D)×|n1-n|;
當(dāng)試驗(yàn)件向下振時(shí)的像素誤差:R2=(D2-D)×|n2-n|;
其中,r為像元尺寸,h為物距,F(xiàn)為焦距,h1為試驗(yàn)件向上振動(dòng)后的物距,h2為試驗(yàn)件向下振動(dòng)后的物距;
步驟5中具體為:
所述修正后的向上振動(dòng)時(shí)像素誤差為:
R′1=R1×tanθ
所述修正后的向下振動(dòng)時(shí)像素誤差為:
R′2=R2×tanθ。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)飛機(jī)強(qiáng)度研究所,未經(jīng)中國(guó)飛機(jī)強(qiáng)度研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810738333.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 振動(dòng)輪振動(dòng)機(jī)構(gòu)
- 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)振動(dòng)源
- 直線振動(dòng)振動(dòng)梁式高頻振動(dòng)篩
- 振動(dòng)給料機(jī)的振動(dòng)機(jī)構(gòu)
- 振動(dòng)裝置及包括該振動(dòng)裝置的振動(dòng)設(shè)備
- 振動(dòng)組件及振動(dòng)電機(jī)
- 振動(dòng)設(shè)備用振動(dòng)電機(jī)
- 振動(dòng)電機(jī)及振動(dòng)設(shè)備
- 振動(dòng)元件以及振動(dòng)裝置
- 振動(dòng)托盤及振動(dòng)箱
- 機(jī)械視覺疲勞裂紋擴(kuò)展試驗(yàn)裂紋長(zhǎng)度動(dòng)態(tài)測(cè)量方法
- 超聲波檢測(cè)在役風(fēng)機(jī)主軸裂紋的試塊
- 裂紋解析裝置、裂紋解析方法以及記錄介質(zhì)
- 基于指數(shù)增量裂紋擴(kuò)展系數(shù)的多裂紋擴(kuò)展預(yù)測(cè)方法
- 基于圖像處理的梁底裂紋檢測(cè)方法、系統(tǒng)、裝置及介質(zhì)
- 一種顯示面板的裂紋檢測(cè)方法
- 金屬裂紋檢測(cè)系統(tǒng)及裂紋檢測(cè)傳感器
- 一種脆性大理石三維裂紋擴(kuò)展路徑預(yù)測(cè)方法及系統(tǒng)
- 一種表面裂紋的識(shí)別系統(tǒng)、方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 針對(duì)小裂紋的裂紋擴(kuò)展速率模型以及對(duì)鈦合金材料進(jìn)行裂紋擴(kuò)展速率建模的方法
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備





