[發明專利]一種巖石梯地上恢復植被種植的方法

在審

• 申請號: 201810735177.4
• 申請日: 2018-07-06
• 公開（公告）號: CN109006213A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 張耿杰;劉淑霞;張川;余建新;曾維軍
• 申請（專利權）人: 云南農業大學
• 主分類號: A01G22/00
• 分類號: A01G22/00;A01G17/00
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

本發明提供了一種巖石梯地上恢復植被種植的方法，包括以下步驟：(1)把巖壁坡度控制在60°以下，并留出巖石平臺；(2)在每層巖石平臺的最里面，每隔9?12米用打孔設備在巖石表面從上往下斜著往里打孔；在巖石梯壁上，同樣用打孔設備每隔9?12米進行打孔，孔的方向垂直于梯壁；深孔和淺孔均交錯設置；(3)(3)巖石梯地上下相鄰兩橫排的孔間錯設置；(4)在打好的每個孔的孔口處，安置蓄接降水的裝置；(5)淺孔內填入土壤基質，然后種入草本植被；深孔內通過移栽的方式種入灌木植被；本發明方法主要是解決在堅硬巖石礦坑上進行植被種植，并且降低經濟成本，實現景觀營造和生態恢復。

技術領域

本發明涉及綠化基礎工程技術領域，具體涉及一種巖石梯地上恢復植被種植的方法。

背景技術

礦山露天開采完畢后，在堅硬的巖石地質環境下，遺留下的礦坑，從上往下看像是由一層層梯田似的堅硬巖壁組成。這種條件下實施礦山復墾面臨著極大挑戰，尤其是在景觀營造和生態恢復方面。

采石跡地的坡度非常陡峭，表面為根系難以入侵的硬質巖石，施工難度度大、需要先進的技術。通常的做法是：工程兵在巖石平臺上根據預先設計好的種樹間距埋設小型爆破裝置，通過爆破形成一個個巖石魚鱗坑，再在坑里填埋一些土壤后種植耐貧瘠樹種。這種方式也存在著明顯弊端：第一，成本偏高，對于礦山復墾責任人來說是較大的經濟負擔；第二，小范圍高密度爆破對于巖體的穩定性來說一項極大考驗，有可能后期會引發更大的次生地質災害；第三，該方式只能解決平臺的植被恢復問題，而對巖壁卻沒法實施；第四，爆破后會造成小面積的環境污染，影響后期植被的正常生長。因此，在巖石礦坑復墾中需要設計出一種成本低、可靠性高的巖石梯地植被種植方法。

發明內容

針對現有技術的不足，本發明的目的在于提供一種巖石梯地上恢復植被種植的方法，本方法在堅硬巖石礦坑上進行植被種植，可有效降低經濟成本，實現景觀營造和生態恢復。

為實現以上目的，本發明通過以下技術方案予以實現：

一種巖石梯地上恢復植被種植的方法，包括以下步驟：

(1)把巖壁坡度控制在60°以下，并留出巖石平臺；

(2)在每層巖石平臺的最里面，即巖壁最下方，每隔9-12米用打孔設備在巖石表面從上往下斜著往里打孔，深孔和淺孔交錯設置；在巖石梯壁上，同樣用打孔設備每隔9-12米進行打孔，孔的方向垂直于梯壁，注意不要產生浮石，或破壞斜面的穩定性，深孔和淺孔交錯設置；

其中，深孔的孔徑均為8-13厘米，深度為0.8-1.1米，淺孔的孔徑均為5-10厘米，深度為30-40厘米；

(3)巖石梯地上下相鄰兩橫排的孔間錯設置；

(4)在打好的每個孔的孔口處，安置蓄接降水的裝置；

(5)淺孔內填入土壤基質，然后種入草本植被；深孔內通過移栽的方式種入灌木植被。

優選地，所述步驟(1)中，巖石平臺的寬度為50-100cm。

優選地，所述步驟(2)中，巖石平臺上的孔與地面所成的角度為70-80°。

優選地，所述步驟(2)中，巖石梯壁上下相鄰兩橫排孔的距離為45-60厘米。

優選地，所述步驟(2)中，選擇巖壁深凹處、深溝或溝狀地形處、裂縫較密處，這些土和水容易匯集的地方，進行打孔。

優選地，所述步驟(4)中，蓄接降水的裝置為導水彎槽或瓦片。

優選地，所述弧導水彎槽的制備方法為：將彎管沿其軸心線切開，即得。該裝置即彎管被切割一半后的裝置。

優選地，所述步驟(5)種，土壤基質由土壤與緩釋肥料混合制成，其養分組成為N：P：K：Mg＝5-7：35-40：5-7：15-20；