[發(fā)明專利]基板翹曲檢測裝置及方法和基板處理裝置及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810732206.1
• 申請日: 2018-07-05
• 公開（公告）號: CN109216238B
• 公開（公告）日: 2023-05-05
• 發(fā)明（設計）人: 田口純之介;佐佐木祐也;千葉俊彌
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種基板翹曲檢測裝置，對在旋轉臺上沿周向設置的凹陷狀的基板載置區(qū)域上所載置的基板在所述旋轉臺旋轉過程中的翹曲進行檢測，所述基板翹曲檢測裝置具有：

光投射單元，其從所述旋轉臺的側方向斜上方以如下方式投射光束：束下部碰撞到所述旋轉臺的側面上端，比該束下部靠上的上部通過所述旋轉臺的表面附近；

受光單元，其與所述光投射單元相向地設置，接收通過所述旋轉臺的表面附近的所述光束，檢測受光量；以及

遮光單元，所述遮光單元設置于所述基板載置區(qū)域與所述受光單元之間，遮蔽向所述受光單元入射的所述光束的束上部，

所述光投射單元和所述遮光單元配置成：在載置于所述基板載置區(qū)域的所述基板從所述旋轉臺的表面向上方突出了規(guī)定高度時，所述受光單元檢測的受光量小于規(guī)定的閾值。

2.根據權利要求1所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

在所述旋轉臺上沿所述周向設置有多個所述基板載置區(qū)域，所述光投射單元和所述受光單元被設定為通過2個以上所述基板載置區(qū)域上方。

3.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

在所述旋轉臺的表面的高度局部不同的情況下，所述光投射單元和所述受光單元配置成：在所述旋轉臺的表面的高度最低的位置處設置的所述基板載置區(qū)域上載置的所述基板從所述旋轉臺的表面向上方突出了所述規(guī)定高度時，所述受光單元檢測的受光量小于所述規(guī)定的閾值。

4.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

還具有對所述旋轉臺的旋轉進行控制的控制單元，

在檢測出所述受光單元檢測的受光量為零時，所述控制單元使所述旋轉臺的旋轉減速或停止。

5.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

所述規(guī)定高度被設定為如下的高度：所述基板不會從所述基板載置區(qū)域脫離，當超過所述規(guī)定高度時產生脫離的風險。

6.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

所述光投射單元配置成：在載置于所述基板載置區(qū)域的所述基板從所述旋轉臺的表面向上方突出了所述規(guī)定高度時，所述受光單元檢測的受光量為零。

7.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

所述光投射單元的傾斜角度被設定為0.1°以上且15°以下的規(guī)定角度。

8.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

所述光投射單元配置成使所述光束位于距所述旋轉臺的表面為0.1mm到1.0mm的范圍內。

9.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

所述受光單元包括電荷耦合器件。

10.根據權利要求1或2所述的基板翹曲檢測裝置，其特征在于，

所述旋轉臺設置于處理容器內，

所述光投射單元和所述受光單元設置于所述處理容器的外部。

11.一種基板處理裝置，具有：

處理容器；

旋轉臺，其設置于所述處理容器內，在該旋轉臺的上表面沿著周向具有基板載置區(qū)域；

處理氣體供給單元，其能夠向所述旋轉臺上供給處理氣體；以及

根據權利要求1至10中的任一項所述的基板翹曲檢測裝置。