[發(fā)明專利]一種氧化鍶鈦晶體管的制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810731512.3 | 申請日: | 2018-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN110690274A | 公開(公告)日: | 2020-01-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉程秀 | 申請(專利權(quán))人: | 劉程秀 |
| 主分類號: | H01L29/24 | 分類號: | H01L29/24;H01L21/34 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214035 江蘇省無錫*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鈦酸鍶晶體管 晶體管 制作 結(jié)構(gòu)晶體管 鈦酸鍶薄膜 電子器件 氧化鍶鈦 制作工藝 摻雜的 鈦酸鍶 疊層 多結(jié) 集成電路 應用 | ||
1.一種氧化鍶鈦晶體管的制作方法,氧化鍶鈦即鈦酸鍶,其特征在于在NbSrTiO3或YSZ或SrTiO3或LaAlO3單晶基片上將摻雜而成的P型和N型鈦酸鍶薄膜材料疊層外延在一起,形成P-N結(jié),P-N-P結(jié),N-P-N結(jié)及多結(jié)結(jié)構(gòu)晶體管;其中N型鈦酸鍶為Sr1-XLaxTiO3或SrAxTi1-XO3,A是Nb或Sb;P型鈦酸鍶為SrBxTi1-XO3,B是In或Mn;X取值范圍為0.005-0.6。
2.按權(quán)利要求1所述的鈦酸鍶晶體管,其特征在于還可以不用單晶基片而直接用N型或P型鈦酸鍶為基底,在N型鈦酸鍶基底上外延一層P型鈦酸鍶或在P型鈦酸鍶基底上外延一層N型鈦酸鍶薄膜,形成P-N結(jié),制備鈦酸鍶晶體二極管;在N型鈦酸鍶基底上外延一層P型和一層N型鈦酸鍶薄膜,形成N-P-N結(jié),制備鈦酸鍶N-P-N晶體三極管;在P型鈦酸鍶基底上外延一層N型和一層P型鈦酸鍶薄膜,形成P-N-P結(jié),制備鈦酸鍶P-N-P晶體三極管。
3.按權(quán)利要求1所述的鈦酸鍶晶體管,其特征在于還可以用氧化物材料BaTiO3或SrTiO3或SiO2或Al2O3或LaAlO3或ZrO2做隔離絕緣層。
4.以上所述的實施例,是本發(fā)明所選的具體實施方式的其中幾種,本領(lǐng)域的發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)可替換制作方法都應包含在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





