[發明專利]一種晶圓傳載手臂及晶圓承載裝置有效
| 申請號: | 201810728796.0 | 申請日: | 2018-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN109148345B | 公開(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發明(設計)人: | 張澤東;申強;狄世聰 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第五十五研究所 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677;H01L21/683 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 陳風平 |
| 地址: | 210016 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶圓傳載 手臂 承載 裝置 | ||
1.一種晶圓傳載手臂,其特征在于,包括:晶圓承載裝置(1)、用于產生負壓的真空發生器(2)、與控制模塊(3)通訊連接用于控制氣流的氣動閥門(4)、以及與所述真空發生器(2)連接的用于有機液體排出的排風裝置(5);
所述晶圓承載裝置(1)包括用于承載晶圓的承載盤(11);所述承載盤(11)上表面設置有積液槽(12),所述積液槽(12)的底面低于所述承載盤(11)的上表面;所述承載盤(11)兩端與所述晶圓邊緣接觸位置分別設置有防止晶圓位移的阻擋部(13),所述阻擋部(13)具有環狀倒角結構;所述承載盤(11)內部鋪設有管道(14);所述積液槽(12)內部設置有與所述管道(14)連通的用于液體流出的出液口(15);
所述真空發生器(2)的出氣口與所述晶圓承載裝置(1)中的管道(14)連接,所述真空發生器(2)的進氣口與所述氣動閥門(3)連接。
2.根據權利要求1所述的晶圓傳載手臂,其特征在于,所述承載盤(11)包括位于所述承載盤(11)兩端的用于支撐晶圓的第一承載部(111),以及連接兩端第一承載部(111)的第二承載部(112),所述第一承載部(111)上表面高于所述第二承載部(112)上表面。
3.根據權利要求2所述的晶圓傳載手臂,其特征在于,所述積液槽(12)位于所述第二承載部(112)兩端。
4.根據權利要求1所述的晶圓傳載手臂,其特征在于,所述承載盤(11)設置有泄液口(16),所述泄液口(16)為位于所述承載盤(11)第一位置(1120)向所述承載盤(11)邊緣延伸的開口。
5.根據權利要求1所述的晶圓傳載手臂,其特征在于,所述管道(14)位于所述承載盤(11)兩側邊。
6.根據權利要求1所述的晶圓傳載手臂,其特征在于,所述積液槽(12)具有環狀倒角結構。
7.根據權利要求1所述的晶圓傳載手臂,其特征在于,所述管道(14)包括第一管道(141)與第二管道(142);所述第一管道(141)與所述第二管道(142)分別位于所述承載盤(11)的兩側邊;所述第一管道/第二管道連接位于所述承載盤(11)兩端同一側的出液口(15),且所述第一管道(141)與所述第二管道(142)交匯于所述承載盤(11)一端。
8.一種晶圓承載裝置,其特征在于,包括用于承載晶圓的承載盤(11);
所述承載盤(11)兩端與所述晶圓邊緣接觸位置分別設置有防止晶圓位移的阻擋部(13),且所述阻擋部(13)具有環狀倒角結構;
所述承載盤(11)兩端設置有積液槽(12),所述積液槽(12)的底面低于所述承載盤(11)的上表面;
所述承載盤(11)內部鋪設有用于液體流出的管道(14);
所述積液槽(12)底面邊緣設置有與所述管道(14)連通的出液口(15)。
9.一種晶圓承載裝置,其特征在于,包括用于承載晶圓的承載盤(11);
所述承載盤(11)包括位于所述承載盤(11)兩端的用于支撐晶圓的第一承載部(111),以及連接兩端第一承載部(111)的第二承載部(112),所述第一承載部(111)上表面高于所述第二承載部(112)上表面;
所述承載盤(11)兩端與所述晶圓邊緣接觸位置分別設置有防止晶圓位移的阻擋部(13),且所述阻擋部(13)具有環狀倒角結構;
所述第二承載部(112)兩端設置有積液槽(12),所述積液槽(12)的底面低于所述第二承載部(112)的上表面;
所述承載盤(11)內部鋪設有用于液體流出的管道(14);
所述積液槽(12)底面邊緣設置有與所述管道(14)連通的出液口(15)。
10.一種包含如權利要求8或9任一所述的晶圓承載裝置的晶圓傳載手臂。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





