[發(fā)明專利]曝光裝置及曝光方法、以及元件制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810723808.0
• 申請日: 2012-12-28
• 公開（公告）號: CN108919609A
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發(fā)明（設計）人: 依田安史
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王濤

1.一種曝光裝置，以能量束通過光學系統(tǒng)使物體曝光，所述裝置具備：

第1移動構件及第2移動構件，其分別能保持所述物體且在既定平面內的區(qū)域內彼此獨立移動，并且分別于載置所述物體的面的下方位置設有第1光柵，所述區(qū)域包含進行所述能量束對所述物體的曝光的曝光站以及從該曝光站在平行于既定平面的第1方向分離配置且對所述物體進行既定測量的測量站；

第1測量系統(tǒng)，其設于所述曝光站，具有以所述第1方向作為長度方向的第1測量構件，從該第1測量構件對所述第1移動構件及第2移動構件中位于所述曝光站的移動構件的所述第1光柵從下方照射第1測量光束，測量位于所述曝光站的該移動構件的第1位置信息；

第2測量系統(tǒng)，其設于所述測量站，具有以所述第1方向作為長度方向的第2測量構件，從該第2測量構件對所述第1移動構件及第2移動構件中位于所述測量站的移動構件的所述第1光柵從下方照射第2測量光束，測量位于所述曝光站的該移動構件的第2位置信息；

第3移動構件，其能與所述第1移動構件及第2移動構件獨立在所述既定平面內移動并且包含通過所述光學系統(tǒng)接收所述能量束的受光面，且其中光學構件是測量裝置的至少一部分，其根據(jù)通過所述受光面而接收的所述能量束的受光結果進行與曝光相關聯(lián)的測量；以及

驅動系統(tǒng)，其分別驅動所述第1移動構件、第2移動構件及第3移動構件。