[發(fā)明專利]用于超分辨率成像的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810720802.8 | 申請日: | 2018-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN110673352A | 公開(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐德剛;閆超;王與燁;唐隆煌;賀奕焮;李長昭;孫忠誠;鐘凱;姚建銓 | 申請(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號: | G02B27/58 | 分類號: | G02B27/58;H01S3/109 |
| 代理公司: | 11021 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 李坤 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 組合光 調(diào)制 光調(diào)制單元 光學(xué)非線性 太赫茲波 增益單元 調(diào)制光 基頻光 激光源 結(jié)構(gòu)化 激光 非線性頻率變換 超分辨率成像 太赫茲探測器 成像光譜 調(diào)制裝置 精細光譜 結(jié)構(gòu)光 成像 帶寬 測量 輸出 運轉(zhuǎn) 緩解 轉(zhuǎn)換 轉(zhuǎn)化 | ||
1.一種用于超分辨率成像的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,包括:
激光源(100),用于產(chǎn)生激光;
光調(diào)制單元(200),用于將激光源(100)輸入的激光轉(zhuǎn)化為結(jié)構(gòu)化調(diào)制光和基頻光的組合光;
光學(xué)非線性增益單元(300),用于將光調(diào)制單元(200)所輸入的組合光中的基頻光轉(zhuǎn)換為太赫茲波,同時此非線性頻率變換過程受到組合光中的結(jié)構(gòu)化調(diào)制光的調(diào)制;以及
太赫茲探測器(400),對光學(xué)非線性增益單元(300)所輸出的太赫茲波進行測量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述激光源(100)包括調(diào)制激光器(110)和泵浦激光器(120),所述光調(diào)制單元(200)包括:
光調(diào)制組件(260),將調(diào)制激光器(110)所輸入的激光進行空間結(jié)構(gòu)調(diào)制生成結(jié)構(gòu)化調(diào)制光并輸出;以及
合束鏡(280),用于將光調(diào)制組件(260)所輸出的結(jié)構(gòu)化調(diào)制光和泵浦激光器(120)所發(fā)出的基頻光合束并輸出。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述激光源(100)為單個激光器,所述光調(diào)制單元(200)還包括:
分束鏡(210),將激光源(100)輸入的激光分為兩束基頻光;
倍頻晶體(220),將輸入的基頻光轉(zhuǎn)換為倍頻光;
第一反射鏡(230),將分束鏡(210)所分出的其中一束基頻光反射到倍頻晶體(220);
濾波單元(240),用于過濾和收集所述倍頻晶體(220)輸出的、沒有被轉(zhuǎn)換為倍頻的基頻光;
第二反射鏡(250),用于反射所述倍頻晶體(220)所輸出的經(jīng)濾波單元(240)后的倍頻光至所述光調(diào)制組件(260);以及
第三反射鏡(270),用于反射分束鏡(210)所分出的另一束基頻光至合束鏡(280)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述光調(diào)制組件(260),包括數(shù)字微鏡片組(261)、數(shù)據(jù)采集卡以及計算機,所述數(shù)字微鏡片組(261)經(jīng)由計算機控制,對輸入的光進行空間結(jié)構(gòu)調(diào)制。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述光學(xué)非線性增益單元(300),包括:
非線性晶體(310),受激產(chǎn)生太赫茲波和斯托克斯光;
前腔鏡(320)和后腔鏡(330),使所述非線性晶體(310)受激發(fā)產(chǎn)生的斯托克斯光在所述前腔鏡(320)和后腔鏡(330)組成的諧振腔內(nèi)發(fā)生振蕩;以及
第二光束收集器(340),用于收集未耗盡的基頻泵浦光。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述濾波單元(240),包括:
濾波鏡(241),用于過濾沒有被倍頻晶體(220)所倍頻的基頻光;以及
第一光束收集器(242),用于收集所述濾波鏡(241)所過濾后的基頻光。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述非線性晶體(310)的制備材料包括:摻氧化鎂鈮酸鋰,摻雜濃度為5mol%。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述非線性晶體(310)為等腰梯形切割,所述等腰梯形的底角為60°~70°。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,光學(xué)非線性增益單元(300)中的前腔鏡(320)和后腔鏡(330)組成的諧振腔為駐波諧振腔,所述前腔鏡(320)和后腔鏡(330)分別與所述非線性晶體(310)的兩側(cè)邊平行。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太赫茲結(jié)構(gòu)光調(diào)制裝置,所述太赫茲探測器(400)包括高萊探測器、熱釋電探測器、液氦冷卻低溫超導(dǎo)輻射熱計、肖特基二極管、光電導(dǎo)開關(guān)或電光晶體。
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