[發明專利]一種依附像素區輪廓的布線方法

有效

• 申請號: 201810718942.1
• 申請日: 2018-07-03
• 公開（公告）號: CN109033544B
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 劉東;姜昊;楊祖聲;陸濤濤
• 申請（專利權）人: 北京華大九天軟件有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392
• 代理公司: 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467
• 代理人: 王金雙

1.一種依附像素區輪廓的布線方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）識別版圖中已有的顯示像素區域，找到像素區域輪廓；

2）設置布線的電氣規則約束和阻抗參數；

3）選取需要配線連接的兩組端口；

4）根據選定的端口位置和像素區域輪廓，確定最貼近像素區域的布線的路徑軌道：采用去除所述像素區域輪廓中凹點的方法，去除階梯部分，使得所述像素區域輪廓圓滑；根據所述像素區域輪廓及端口信息，使用最貼近像素顯示區輪廓的一對端口截取與布線軌道相關的輪廓的一部分，作為布線軌道；

5）根據布線路徑軌道與每一對待連接端口的位置，確認所有布線。

2.根據權利要求1所述的依附像素區輪廓的布線方法，其特征在于，步驟1）所述的識別版圖中已有的顯示像素區域，進一步包括：通過設置版圖設計單元的庫名、單元名和視圖名的方式，指定顯示像素的版圖設計單元，從當前版圖中找到完整的陣列區域，進而找到像素區域輪廓；

設置每個像素單元中代表像素輪廓layout的金屬層，識別出一個像素單元的范圍。

3.根據權利要求1所述的依附像素區輪廓的布線方法，其特征在于，步驟2）所述的布線的電氣規則約束的幾何參數，包括：滿足曝光工藝的最小線寬和最小線間距，以及最貼近像素區輪廓的第一根布線與像素輪廓的最小距離。

4.根據權利要求1所述的依附像素區輪廓的布線方法，其特征在于，步驟3）所述的選取需要配線連接的兩組端口，是選取需要設置布線端口所在的版圖設計單元。

5.根據權利要求1所述的依附像素區輪廓的布線方法，其特征在于，所述步驟5）進一步包括：

最貼近像素區輪廓的第一根布線與輪廓的距離不小于設定的所述最貼近像素區輪廓的第一根布線與像素輪廓的最小距離；

除去貼近像素區輪廓的第一根布線外的其余布線，相鄰兩根布線之間，除了端口附近，保持設定的所述最小線間距；

布線與端口的交點采用就近原則，如果與端口圖形相交則直接取交點；如果不相交則沿端口伸出方向延長端口所在直線與布線相交取得交點，再將此交點與端口相連作為布線的一部分。