[發明專利]一種折疊式紋影裝置及基于其的氣體溫度場可視化方法在審
| 申請號: | 201810718822.1 | 申請日: | 2018-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN109100434A | 公開(公告)日: | 2018-12-28 |
| 發明(設計)人: | 蔡志崗;范可舟;李佼洋;鄧森;范澤濤;奉瑋杰;王嘉輝 | 申請(專利權)人: | 中山大學 |
| 主分類號: | G01N30/02 | 分類號: | G01N30/02;G01N30/54 |
| 代理公司: | 廣州潤禾知識產權代理事務所(普通合伙) 44446 | 代理人: | 林偉斌;楊釗霞 |
| 地址: | 510275 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 凸透鏡 紋影 分束鏡 平面反射鏡 測試區 折疊式 光源 成像裝置 轉換光路 可視化 溫度場 刀口 成像 光學成像技術 切割光束 依次設置 刀口處 反射光 平行光 出射 重影 反射 圖像 匯聚 轉換 | ||
本發明涉及紋影光學成像技術領域,具體涉及一種折疊式紋影裝置及基于其的氣體溫度場可視化方法;該紋影裝置包括光源及在光源后方依次設置的分束鏡、凸透鏡及平面反射鏡;凸透鏡及平面反射鏡之間用于設置測試區;經平面反射鏡的反射光經凸透鏡后被分束鏡轉換光路,且在分束鏡轉換光的路徑上設有用于切割光束的刀口;還包括對從刀口出射的光進行成像的成像裝置。光源發出的光經分束鏡和凸透鏡后生成平行光并通過測試區,經平面反射鏡的反射后再次分別通過測試區和凸透鏡,通過分束鏡轉換光路匯聚于刀口處,最終被成像裝置接收成像。該折疊式紋影裝置,能提高紋影圖像的清晰度,并解決重影的問題。
技術領域
本發明涉及紋影光學成像技術領域,更具體地,涉及一種折疊式紋影裝置及基于其的氣體溫度場可視化方法。
背景技術
紋影裝置可以觀測流場的分布,廣泛應用于流體混合、氣體泄漏、燃燒等現象的觀察。但對于常規“Z”字型與直線型紋影裝置,光線僅單次通過測試區,紋影圖像清晰度不高,限制了實驗的定量分析;基于凹面鏡的反射式光路,入射光路與反射光路不嚴格重合,存在重影問題。
目前實驗中常利用熱敏電阻溫度計,熱電偶溫度傳感器等接觸式方法測量氣體溫度,但其響應時間較長,且干擾氣流流向,數據精度不高,可靠性較差;而以紅外熱像儀為代表的非接觸測溫方法精度較好,但設備成本較高。
發明內容
本發明的目的在于克服現有技術的不足,提供一種折疊式紋影裝置,能提高紋影圖像的清晰度,并解決重影的問題。
為達到上述目的,本發明采用的技術方案是:
提供一種折疊式紋影裝置,包括光源及在光源后方依次設置的分束鏡、凸透鏡及平面反射鏡;凸透鏡及平面反射鏡之間用于設置測試區;經平面反射鏡的反射光經凸透鏡后被分束鏡轉換光路,且在分束鏡轉換光的路徑上設有用于切割光束的刀口;還包括對從刀口出射的光進行成像的成像裝置。
上述方案中,光源發出的光經分束鏡和凸透鏡后生成平行光并通過測試區,經平面反射鏡的反射后再次分別通過測試區和凸透鏡,通過分束鏡轉換光路匯聚于刀口處,最終被成像裝置接收成像。該折疊式紋影裝置,能提高紋影圖像的清晰度,并解決重影的問題。
優選地,還包括用于調節光源、分束鏡、凸透鏡及平面反射鏡位置的光學支架。位置的調節便于保證光源發光點、分束鏡、凸透鏡及平面反射鏡的中心在同一高度上,進而提高成像質量。
進一步優選地,所述光學支架用于調節光源、分束鏡、凸透鏡及平面反射鏡的高度、轉動角度及俯仰角度。
優選地,光源的發光點位于凸透鏡的焦點位置上。這樣設置能提高成像質量。
優選地,光源的發光點與分束鏡之間的距離為8-12㎜。進一步優選地,光源的發光點與分束鏡之間的距離為10㎜。
優選地,光源為LED準單色光源,其光譜帶寬較窄,可有效減少不同波段光線因折射產生的色散影響;分束鏡為50-50分束鏡,其棱長為40㎜;凸透鏡的直徑為60㎜,焦距為150㎜;平面反射鏡的直徑為100㎜;凸透鏡與平面反射鏡的間距為300㎜;刀口與分束鏡的間距為10㎜;成像裝置為高分辨率CCD,能進一步提高紋影圖像的清晰度,成像裝置的畫幅像素為1024×1024,成像裝置與刀口的間距為20㎜。
本發明的另一個目的在于提供一種氣體溫度場可視化方法,基于上述折疊式紋影裝置,所述刀口與測試區氣流方向垂直,使用該折疊式紋影裝置對氣柱進行成像以獲取氣柱的紋影灰度圖,包括如下步驟:
S1.在紋影灰度圖中截取薄層區域;
S2.獲取所述薄層區域的紋影圖像灰度數據,在薄層區域中選取灰度極大值點與灰度極小值點并計算灰度差值;
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