[發(fā)明專利]一種非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810717331.5
• 申請(qǐng)日: 2018-07-03
• 公開（公告）號(hào): CN108490514A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王越民;王燾駿
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佛山王氏航空光學(xué)科技有限公司
• 主分類號(hào): G02B1/14
• 分類號(hào): G02B1/14;G02B1/18;G02B1/16;G02B1/116
• 代理公司: 北京世譽(yù)鑫誠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11368
• 代理人: 郭官厚

本發(fā)明涉及一種非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩，從外到內(nèi)依次包括增硬保護(hù)層、基體、增透層、導(dǎo)電加熱層、導(dǎo)電引線圖型層和抗水性保護(hù)層。面罩整體結(jié)構(gòu)符合人體面部結(jié)構(gòu)，外觀流線美觀，防霧效果永久性，容易清潔維護(hù)，使用壽命長。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及保護(hù)面罩技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩。

背景技術(shù)

目前，現(xiàn)有保護(hù)面罩的結(jié)構(gòu)制作比較簡單，基材采用塑料透明的平面板材用熱加方法壓成要求型狀；防霧方式是在透明基材上采用涂覆化學(xué)有機(jī)憎水基材料達(dá)到防霧效果，這種防霧效果是有時(shí)效性的即是隨時(shí)間流逝防霧效果變?nèi)酢Ｉa(chǎn)繁瑣，生產(chǎn)一次合格率低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足之處。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩，從外到內(nèi)依次包括增硬保護(hù)層、基體、增透層、導(dǎo)電加熱層、導(dǎo)電引線圖型層和抗水性保護(hù)層。

優(yōu)選地，增硬保護(hù)層為機(jī)硅改性透明納米層。

優(yōu)選地，增透層為納米級(jí)透明無機(jī)硅納米層。

優(yōu)選地，導(dǎo)電加熱層為納米無機(jī)半導(dǎo)體氧化物層。

優(yōu)選地，導(dǎo)電引線圖型層為聚酯半透明局部形狀圖型導(dǎo)電層。

優(yōu)選地，抗水性保護(hù)層為納米級(jí)含氟化物透明層。

優(yōu)選地，基體為聚碳酸酸透明材料。

優(yōu)選地，非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩的各層通過空鍍膜物理沉積的方式制備。

本發(fā)明提供的非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩，具有以下有益效果：面罩整體結(jié)構(gòu)符合人體面部結(jié)構(gòu)，外觀流線美觀，防霧效果永久性，容易清潔維護(hù)，使用壽命長。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)層次示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩的形狀示意圖；

圖3為圖2的一種剖視圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

如圖1，本發(fā)明提供的非球曲面塑料導(dǎo)熱防霧透明面罩，從外到內(nèi)依次包括增硬保護(hù)層1、基體6、增透層2、導(dǎo)電加熱層3、導(dǎo)電引線圖型層4和抗水性保護(hù)層5。

在一個(gè)示例中，增硬保護(hù)層1為機(jī)硅改性透明納米層，作用是增硬保護(hù)表面碰劃傷。

在一個(gè)更具體的示例中，有機(jī)硅改性透明納米層的制備如下：

流程：清洗、烘干、鍍膜、檢查。

鍍膜工藝條件：真空度為3.5×10^-2-1.3×10^-2pa,鍍膜材料為有機(jī)硅納米改性透明，材料狀態(tài)為液體，設(shè)備為立式鍍膜機(jī)：鍍膜方式為等離子轟擊沉積，流量為72m l/s,鍍層時(shí)間為12秒。

在一個(gè)示例中，增透層2為納米級(jí)透明無機(jī)硅納米層，作用是增加光波透過即是增透膜性質(zhì)。

在一個(gè)更具體的示例中，納米級(jí)透明無機(jī)硅納米的制備如下：

流程：清洗、烘干、鍍膜、檢查。

鍍膜工藝條件：真空度為4.3×10^-3-3.5×10^-3pa,鍍膜材料為納米級(jí)透明無機(jī)硅，材料狀態(tài)為固態(tài)，設(shè)備為立式鍍膜機(jī)，鍍膜方式為蒸發(fā)，蒸發(fā)溫度為1600℃，電壓范圍為8.8V-9.2V，電流范圍為780A-820A，鍍層時(shí)間為18秒。