[發(fā)明專利]一種G-M型低溫制冷機(jī)旋轉(zhuǎn)閥體及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810712877.1
• 申請(qǐng)日: 2018-07-02
• 公開（公告）號(hào): CN108825841B
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張吉阜;陳興馳;劉敏;代明江;鄧春明;鄧暢光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東省新材料研究所
• 主分類號(hào): F16K27/00
• 分類號(hào): F16K27/00;C25D11/02;C25D11/06
• 代理公司: 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 呂露

1.一種G-M型低溫制冷機(jī)旋轉(zhuǎn)閥體，其特征在于，其包括鋁合金旋轉(zhuǎn)閥體和氧化鋁陶瓷膜；

所述鋁合金旋轉(zhuǎn)閥體包括閥體本體、高壓開孔、工作凸臺(tái)、低壓槽、通氣孔和氣室；

所述閥體本體具有用于設(shè)置所述工作凸臺(tái)的第一表面以及與所述第一表面相對(duì)的第二表面，所述高壓開孔和所述低壓槽均設(shè)置于所述工作凸臺(tái)，所述高壓開孔沿所述第一表面到所述第二表面的方向貫穿所述閥體本體；所述通氣孔設(shè)置于所述第一表面并沿所述第一表面到所述第二表面的方向貫穿所述閥體本體；所述氣室開設(shè)于所述第二表面；

所述氧化鋁陶瓷膜鍍于所述鋁合金旋轉(zhuǎn)閥體的表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的G-M型低溫制冷機(jī)旋轉(zhuǎn)閥體，其特征在于，所述工作凸臺(tái)凸出所述第一表面的高度為0.4-0.6mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的G-M型低溫制冷機(jī)旋轉(zhuǎn)閥體，其特征在于，所述氧化鋁陶瓷膜的厚度為60-80μm；

優(yōu)選地，所述氧化鋁陶瓷膜中致密層厚度大于等于50μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的G-M型低溫制冷機(jī)旋轉(zhuǎn)閥體，其特征在于，所述G-M型低溫制冷機(jī)旋轉(zhuǎn)閥體中所述工作凸臺(tái)的表面粗糙度Ra≤0.1μm，其余表面的粗糙度Ra≤3μm。

5.一種如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的G-M型低溫制冷機(jī)旋轉(zhuǎn)閥體的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：采用微弧氧化工藝將所述氧化鋁陶瓷膜鍍于所述鋁合金旋轉(zhuǎn)閥體的表面，微弧氧化工藝包括：以置于電解液中的所述鋁合金旋轉(zhuǎn)閥體作為處理陽極，施加占空比為20-50％的400-550V正向電壓以及占空比為30-80％的50-200V的負(fù)向電壓，于頻率為100-1000Hz以及電解液溫度為25-60℃的條件下處理60-90min。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述電解液中含有10-40g/L的硅酸鈉、5-15g/L的四硼酸鈉以及2-10g/L氫氧化鈉。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述電解液中還含有2-10g/L的鎢酸鈉和15-30g/L的偏鋁酸鈉。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述電解液中還含有5-30g/L的乙二胺四乙酸二鈉和5-30g/L的檸檬酸鈉。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，在氧化鋁陶瓷膜鍍于所述鋁合金旋轉(zhuǎn)閥體的表面之后還包括第一次拋光處理，第一次拋光處理是于拋光轉(zhuǎn)速為1500-2000轉(zhuǎn)/分鐘的條件下拋光1-2h以去除工件表面的氧化膜疏松層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，第一次拋光處理后還包括第二次拋光處理，第二次拋光處理是于1500-2000轉(zhuǎn)/分鐘的條件下拋光0.5-1h并使所述工作凸臺(tái)的粗糙度Ra≤0.05μm。