[發明專利]薄微晶柔光磚的制備方法及薄微晶柔光磚

在審

• 申請號: 201810707043.1
• 申請日: 2018-06-29
• 公開（公告）號: CN108794072A
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 林偉;鄧榮;林金宏;陳勇;肖春燕
• 申請（專利權）人: 河源市東源鷹牌陶瓷有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;C04B33/00;C04B35/00;C03C8/00;C03C8/04
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

1.一種薄微晶柔光磚的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

A.坯體成型；在3000-10000噸壓力下壓制成型，經1h在50-250℃下干燥，得到成型坯體；

B.向成型坯體的表面施加底釉，然后在所述底釉上噴墨印花，150℃的條件下干燥1-2min后，再在噴墨印花的一面用140目的空網印一層保護釉；在所述保護釉的表面噴一層透明釉，然后所述透明釉的表面用瀑布式布料方式布一層透明細熔塊，得到第一坯磚，所述透明細熔塊的粒度為20-140目；向所述第一坯磚設置有所述透明細熔塊的一面噴保護膠水，然后在150－250℃干燥1min，得到第二坯磚；

C.把所述第二坯磚經1170-1240℃高溫燒制70-75mim獲得半成品；

D.所述半成品使用由彈性模塊、啞光磨塊、研磨刷和纖維刷依次組成的拋光線，進行打超潔亮得到薄微晶柔光磚。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述底釉以質量百分比計包括：SiO240-55％、Al2O310-15％、CaO8-10％、MgO5-8％、ZnO10-15％、K2O4-6％、Na2O1-3％、ZrO21-3％、Sb2O31-3％。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述底釉的流速為7-8g/s，比重為1.4-1.6g/ml，施加量為730-750g/m2，細度為經325目篩后干料重量百分比為0.4％-0.6％。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉包括透明釉料和印膏，其質量比為2-4:1；所述透明釉料按質量百分比計包括透明釉粉60-65％、羧甲基纖維素鈉0.2-0.5％、三聚磷酸鈉0.2-0.4％、氯化鋁0.3-1％、硫酸鋁0.3-1％、十二水合硫酸鋁鉀0.3-1％和水32-38％。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉經過球磨10-12小時，比重1.5-2.0g/ml,流速為4.5-5.0g/s，其細度為經325目篩后干料重量百分比為0.3-0.5％。

6.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述透明釉由所述透明釉料制得，比重為1.2-1.5g/ml，施加量為310-320g/m2。

7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述透明細熔塊按質量百分比計包括：Al2O3 5-15％、SiO240-55％、CaO10-18％、K2O5-10％、MgO5-12％、BaO4-10％、ZnO 2-5％、Lu2O30.1-0.5％；所述透明細熔塊的施加量為2328g/m2，施加厚度為0.8-1.2mm。

8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述保護膠水為甲基纖維素用乙醇、乙二醇預先分散或濕潤，然后加水溶解制成的有粘性的膠水；所述保護膠水的流速為4.0-4.5g/s，施加量為390-400g/m2。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述拋光線依次順序為彈性模塊：120目3組，150目5組，180目4組，240目4組，320目4組，400目3組，500目3組；啞光磨塊7組；研磨刷7組；纖維刷16組；所述彈性模塊、所述啞光磨塊、所述研磨刷、所述纖維刷每組均有6-8個小磨塊組成。

10.一種薄微晶柔光磚，其特征在于，用權利要求1-8任一項所述的制備方法制得，所述薄微晶柔光磚的光澤度為25－35度。