[發(fā)明專利]遠(yuǎn)紅外瓷磚的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810707041.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108689606A | 公開(公告)日: | 2018-10-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳則昌;曾智;林金宏;吳柏惠;吳志堅(jiān) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 河源市東源鷹牌陶瓷有限公司 |
| 主分類號(hào): | C03C8/00 | 分類號(hào): | C03C8/00;C04B41/89 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 517000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 瓷磚 遠(yuǎn)紅外 素坯 遠(yuǎn)紅外添加劑 燒結(jié) 底釉 制備 高嶺土 納米電氣石 成品表面 二氧化鋯 坯體表面 坯體成型 遠(yuǎn)紅外線 碳化鋯 氧化鋇 氧化鈣 氧化硅 氧化鉀 氧化鎂 氧化鈉 拋光 氧化鋁 磨邊 坯體 石英 半成品 長(zhǎng)石 發(fā)射 | ||
1.一種遠(yuǎn)紅外瓷磚的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
坯體成型,并將坯體置于150℃-200℃的條件下,干燥70min-100min;
在干燥后的坯體表面施底釉,并將施底釉后的坯體置于1200℃-1280℃的條件下,燒結(jié)30min-45min,得到素坯;
在素坯的表面施遠(yuǎn)紅外面釉,并將施遠(yuǎn)紅外面釉后的素坯置于600℃-1120℃的條件下,燒結(jié)60min-110min,得到半成品;
利用包括樹脂磨塊和彈性磨塊的拋光線,對(duì)半成品進(jìn)行拋光、磨邊,得到成品;
對(duì)成品表面進(jìn)行超潔亮處理,以使成品表面的光澤度達(dá)85度-95度,即得遠(yuǎn)紅外瓷磚;
所述遠(yuǎn)紅外面釉的組分包括氧化鋁、氧化硅、氧化鈣、氧化鉀、氧化鎂、氧化鋇、氧化鈉、及遠(yuǎn)紅外添加劑,所述遠(yuǎn)紅外添加劑的組分包括高嶺土、長(zhǎng)石、石英、納米電氣石、碳化鋯、二氧化鋯。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述遠(yuǎn)紅外面釉的組分還包括脂肪醇磺酸鹽和硅醇類非離子表面活性劑。
3.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述遠(yuǎn)紅外面釉的各組分的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為:
4.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述脂肪醇磺酸鹽的親水疏水平衡值為8-10,所述硅醇類非離子表面活性劑的親水疏水平衡值為9-16。
5.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述納米電氣石的組分包括:
納米黑電氣石50w%-75w%;
納米鋰電氣石12w%-45w%;
納米鎂電氣石3w%-25w%。
6.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述納米電氣石為改性納米電氣石。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述將施遠(yuǎn)紅外面釉后的素坯置于600℃-1120℃的條件下,燒結(jié)60min-110min,得到半成品的步驟,包括:
將施遠(yuǎn)紅外面釉后的素坯升溫至600℃,燒制2min-6min,使得坯體含水率降低至0.5%以下;
以10℃/min的升溫速率,升溫至890℃-1120℃;
以10℃/min的降溫速率,降溫至600℃;
冷卻,得到半成品。
8.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述樹脂磨塊包括:5組150目的樹脂磨塊和3組180目的樹脂磨塊;
所述彈性磨塊包括:5組180目的彈性磨塊、10組240目的彈性磨塊、5組300目的彈性磨塊、5組400目的子彈性磨塊、5組600目的彈性磨塊、3組800目的彈性磨塊、3組1000目的彈性磨塊、3組1500目的彈性磨塊、3組2000目的彈性磨塊、4組3000目的彈性磨塊。
9.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,在所述在素坯的表面施遠(yuǎn)紅外面釉的步驟中,所述遠(yuǎn)紅外面釉的流速為28s-32s,所述遠(yuǎn)紅外面釉的比重為1.85g/ml-1.95g/ml,所述遠(yuǎn)紅外面釉的施加量為1005g/m2-1020g/m2。
10.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,在所述在干燥后的坯體表面施底釉的步驟中,所述底釉的流速為28s-32s,所述底釉的比重為1.85g/ml-1.95g/ml,所述底釉的施加量為450g/m2-470g/m2,所述底釉的細(xì)度為經(jīng)325目篩后干料重量百分比為0.4%-0.6%。
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