[發明專利]一種晶體硅太陽能電池的擴散工藝在審
| 申請號: | 201810706918.6 | 申請日: | 2018-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN109103081A | 公開(公告)日: | 2018-12-28 |
| 發明(設計)人: | 勵小偉;梁海;賴儒丹 | 申請(專利權)人: | 浙江啟鑫新能源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/223 | 分類號: | H01L21/223;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 胡擁軍;糜婧 |
| 地址: | 315613 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 沉積 三氯氧磷 晶體硅太陽能電池 擴散工藝 擴散爐 通氮氣 擴散 氧氣 氮氣 退火 二氧化硅層 硅片表面 電池片 電性能 漸變式 預熱 極差 減小 結深 磷源 遞增 | ||
1.一種晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,包括以下步驟:
S1.將擴散爐預熱至780~800℃,并通氮氣;
S2.將制絨清洗后的硅片送入所述擴散爐內,保持所述擴散爐的溫度在750~780℃,同時通氮氣;
S3.將所述擴散爐保持在750~800℃,以18~20L/min的流量通入氮氣,以0.5~1.5L/min的流量通入氧氣,氧氣與硅片表面的硅反應生成一層二氧化硅層;
S4.將所述擴散爐保持在750~800℃,以18~20L/min的流量通入氮氣,以0.3~0.5L/min的流量通入氧氣,以0.3~0.5L/min的流量通入三氯氧磷源,時間為200~400s;
S5.將所述擴散爐保持在750~800℃,以14~20L/min的流量通入氮氣,以0.5~0.8L/min的流量通入氧氣,以0.7~1.0L/min的流量通入三氯氧磷源,時間為600~800s;
S6.將所述擴散爐升溫并保持在810~850℃,通氮氣,時間為500~700s;
S7.將所述擴散爐保持在810~850℃,以15~20L/min的流量通入氮氣,以0.5~0.8L/min的流量通入氧氣,以1.4~2.0L/min的流量通入三氯氧磷源,時間為400~600s;
S8.將所述擴散爐保持在810~850℃,通氮氣,時間為100~200s;
S9.將所述擴散爐降溫并保持在700~780℃,以20~30L/min的流量通入氮氣,以1~2L/min的流量通入氧氣,時間為600~1200s;
S10.將所述擴散爐保持在780~800℃,通氮氣,退舟。
2.根據權利要求1所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S1中,將擴散爐預熱至780~800℃,以20L/min的流量通入氮氣,時間為5s。
3.根據權利要求1所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S2中,將制絨清洗后的硅片送入所述擴散爐內,保持所述擴散爐的溫度在750~780℃,以20L/min的流量通入氮氣,時間為300s。
4.根據權利要求1所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S3的時間為300s。
5.根據權利要求1所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S10中,將所述擴散爐保持在780~800℃,以20L/min的流量通入氮氣,時間為300~500s。
6.根據權利要求1所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,還包括步驟S11.將所述擴散爐保持在780~800℃,以15~20L/min的流量通入氮氣,時間為5s。
7.根據權利要求1-6任一所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S6中,溫度從爐口到爐尾保持在840℃、835℃、835℃、830℃、830℃。
8.根據權利要求7所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S7中,溫度從爐口到爐尾保持在840℃、835℃、835℃、830℃、830℃。
9.根據權利要求8所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S8中,溫度從爐口到爐尾保持在840℃、835℃、835℃、830℃、830℃。
10.根據權利要求9所述的晶體硅太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,步驟S1、S2、S3、S4、S5、S9、S10中,所述擴散爐的爐口到爐尾溫度一致。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





