[發(fā)明專利]一種含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810705816.2 | 申請日： | 2018-07-02 |
| 公開（公告）號： | CN110491535A | 公開（公告）日： | 2019-11-22 |
| 發(fā)明（設計）人： | 潘東平;張志銀;儲志軍;陸俊;劉兵;陳駿豪 | 申請（專利權）人： | 江蘇希捷新能源工程技術有限公司 |
| 主分類號： | G21F5/12 | 分類號： | G21F5/12 |
| 代理公司： | 32208 無錫市天宇知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人： | 周舟<國際申請>=<國際公布>=<進入國 |
| 地址： | 214200 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 防上浮 上浮 放射性廢物處置 單向運動 頂部開口 二次灌漿 放入容器 高完整性 工件設置 機構設置 容器內壁 接觸點 伸縮 密封 自由 | ||
1.一種含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，主要包括頂部開口的容器、若干個防上浮機構和若干個工件，所述防上浮機構設置在容器內壁上方，所述工件設置在容器內，當工件上浮時，最上方的工件頂部和防上浮機構至少存在一個接觸面或接觸點。
2.根據(jù)權利要求1所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，所述防上浮機構包括支座和限位部件，防上浮機構通過支座連接在容器內壁的上方，限位部件可沿著支座旋轉或在水平方向上伸縮，當工件上浮時，最上方的工件頂部和支座無接觸面或接觸點。
3.根據(jù)權利要求2所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，還包括固定裝置，固定裝置預埋在容器上方內壁中或連接在容器上方內壁上，支座連接在固定裝置上。
4.根據(jù)權利要求2所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，所述支座內部具有可容納限位部件的容納空腔，限位部件通過彈性部件與容納空腔內壁相連。
5.根據(jù)權利要求2、3、4任一所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，所述限位部件端部的形狀為切口向上的反斜狀柱體。
6.根據(jù)權利要求1所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，所述防上浮機構有2個以上。
7.根據(jù)權利要求1所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，所述容器內壁設有防腐層。
8.根據(jù)權利要求1所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，所述防上浮機構的材料為耐腐蝕材料。
9.根據(jù)權利要求1所述的含防上浮機構的放射性廢物處置高完整性容器，其特征在于，所述工件為桶餅。
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