[發(fā)明專利]一種太陽光敏感型除草劑納米囊及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810700314.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110651786B | 公開(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王瑞兵;高成;李銘源;許貝文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 澳門大學(xué) |
| 主分類號(hào): | A01N25/28 | 分類號(hào): | A01N25/28;A01N43/40;A01N57/20;A01N37/22;A01N43/90;A01P13/00 |
| 代理公司: | 成都超凡明遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51258 | 代理人: | 魏彥 |
| 地址: | 中國澳門*** | 國省代碼: | 澳門;82 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 太陽光 敏感 除草劑 納米 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種太陽光敏感型除草劑納米囊,其特征在于,其包括:
納米囊,由葫蘆脲、甲基紫晶、4-己氧基偶氮苯自組裝形成;以及
除草劑,負(fù)載在所述納米囊中,
其中4-己氧基偶氮苯具有以下化學(xué)式:
其中x為3;
所述葫蘆脲、所述甲基紫晶和所述4-己氧基偶氮苯的摩爾比例為1~2:1~2:1~2;
所述除草劑選自百草枯、敵草快、甲草胺、乙草胺、草銨膦和草甘膦中的任意一種;以及
所述除草劑在所述除草劑納米囊中的重量濃度為大于0且≤5%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽光敏感型除草劑納米囊,其特征在于,所述葫蘆脲選自葫蘆脲[8-10]。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽光敏感型除草劑納米囊,其特征在于,所述葫蘆脲是葫蘆脲[8]。
4.一種如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的太陽光敏感型除草劑納米囊的制備方法,其特征在于,其包括以下步驟:
將葫蘆脲、甲基紫晶和除草劑溶解于水中;
加入4-己氧基偶氮苯的有機(jī)溶劑溶液,并攪拌,形成光敏感型兩親性復(fù)合物,在自組裝形成納米囊過程中,同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)所述除草劑的負(fù)載;
在水中透析除去有機(jī)溶劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽光敏感型除草劑納米囊的制備方法,其特征在于,所述有機(jī)溶劑選自乙醇、丙酮、N,N-二甲基甲酰胺和二甲基亞砜中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽光敏感型除草劑納米囊的制備方法,其特征在于,所述攪拌的時(shí)間≥0.5小時(shí)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽光敏感型除草劑納米囊的制備方法,其特征在于,將透析后的溶液經(jīng)過孔徑為0.4~0.5μm的微孔濾膜過濾后,凍干形成粉末狀的產(chǎn)品。
8.一種如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的太陽光敏感型除草劑納米囊的應(yīng)用,其特征在于,將所述除草劑納米囊施加于植物表面,并經(jīng)太陽光照射。
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