[發明專利]帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統

有效

• 申請號: 201810697636.4
• 申請日: 2018-06-29
• 公開（公告）號: CN108871060B
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 陳勁松;曾玲芳;吳新躍;張國棟;張筱;王南;平仕良;吳夢強;賈永濤;杜小坤
• 申請（專利權）人: 北京航天發射技術研究所;中國運載火箭技術研究院
• 主分類號: F41F3/04
• 分類號: F41F3/04
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 張輝

1.帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統，其特征在于：包括一級外圍噴水降噪系統和二級高位噴水降噪系統；所述一級外圍噴水降噪系統能夠從發射平臺臺體(1)周向側壁向外圍噴水，抑制經發射平臺臺體(1)導流槽下瀉反濺的高聲強噴流噪聲；所述二級高位噴水降噪系統設置在發射平臺臺體(1)外圍，為高位噴水模式，能夠從外側向導流槽出口噴水，形成二級外圍噴水水幕，抑制導流槽出口反射的高聲強噴流噪聲；同時所述二級高位噴水降噪系統還能夠向發射平臺臺體(1)中心區噴水，形成二級內部噴水水幕；

二級高位噴水降噪系統包括主水管(12)、上水管(11)、二級蓄水器(6)、二級內側噴嘴陣列(7)和二級外側噴嘴陣列(8)；

來自外部供水管路的水流由主水管(12)進入，依次經過上水管(11)、和二級蓄水器(6)后，由二級內側噴嘴陣列(7)和二級外側噴嘴陣列(8)噴出；

二級內側噴嘴陣列(7)向發射平臺臺體(1)中心區噴水，形成二級內部噴水水幕；二級外側噴嘴陣列(8)向導流槽出口噴水，形成二級外圍噴水水幕；

所述二級內側噴嘴陣列(7)和二級外側噴嘴陣列(8)中的噴嘴一起設計，結構型式為連通式雙側噴嘴、T字型雙側噴嘴或者交錯式雙排雙側噴嘴；

所述二級內側噴嘴陣列(7)和二級外側噴嘴陣列(8)距離發射平臺臺體上表面3-15m。

2.根據權利要求1所述的帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統，其特征在于：發射平臺臺體(1)四周邊框為中空結構，該中空結構與外部供水管路連通，形成內置式噴水管道(15)，發射平臺臺體(1)四周側壁上加工有一級外圍噴嘴陣列(4)，一級外圍噴嘴陣列(4)中的噴嘴與內置式噴水管道(15)相連通，構成一級外圍噴水降噪系統。

3.根據權利要求1所述的帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統，其特征在于：在發射平臺臺體(1)四周側壁上外掛噴水管道，噴水管道與外部供水管路連通，噴水管道外圍加工有一級外圍噴嘴陣列(4)，一級外圍噴嘴陣列(4)中的噴嘴與該外掛噴水管道連通，構成一級外圍噴水降噪系統。

4.根據權利要求2或3所述的帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統，其特征在于：所述噴嘴開口向下，且噴嘴中水流方向與水平方向的夾角為0～90°。

5.根據權利要求4所述的帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統，其特征在于：所述噴嘴為非凸起結構或凸起結構。

6.根據權利要求1所述的帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統，其特征在于：在發射平臺臺體(1)上設置有支承框(20)以及用于燃氣流排導燃氣的導流孔(21)，支承框(20)加工成相互貫通的中空結構，形成內置流道，所述內置流道與外部供水管路連通，作為發射平臺的冷卻水流道和供水通道；支承框(20)上表面以及面向導流孔(21)的側壁上開設有與所述內置流道連通的噴水孔陣列；

發射平臺臺體(1)四周邊框為中空結構，與內置流道連通，且發射平臺臺體(1)四周邊框上表面加工有與所述內置流道連通的噴水裝置陣列。

7.根據權利要求6所述的帶噴水抑制外圍、高位噴流噪聲功能的發射系統，其特征在于：所述支承框(20)上表面的噴水孔陣列由多個內置非凸起形式的噴水孔構成；支承框(20)面向導流孔(21)側壁上開設的噴水孔陣列由多個內置噴水孔構成，每個內置噴水孔為凸起形式或非凸起形式；

發射平臺臺體(1)四周邊框上表面的噴水裝置陣列采用高位噴水形式，向發射平臺臺體(1)上表面噴水。