[發(fā)明專(zhuān)利]一種新型制備薄膜的裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810696065.2
• 申請(qǐng)日: 2018-06-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108624854B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-07-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韓偉丹
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海祖強(qiáng)能源有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35;C23C14/24;C23C14/50
• 代理公司: 北京正和明知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11845
• 代理人: 申婕

1.一種制備薄膜的裝置，包括：

濺射室，用于生成金屬前驅(qū)物；

蒸發(fā)室，用于將蒸發(fā)的所述金屬前驅(qū)物鍍至基板上形成薄膜；

以及基板承載裝置，位于蒸發(fā)室中，用于承載所述基板；

所述濺射室與所述蒸發(fā)室可相連通，所述基板承載裝置朝向所述濺射室；所述濺射室和所述蒸發(fā)室之間還包括屏蔽層；所述屏蔽層包括開(kāi)孔，所述基板承載裝置朝向所述開(kāi)孔；所述濺射室進(jìn)一步包括濺射裝置和發(fā)射源，其中所述濺射裝置接收來(lái)自發(fā)射源的濺射，所述發(fā)射源包括位于不同位置的不同發(fā)射源；所述濺射裝置為旋轉(zhuǎn)裝置；所述旋轉(zhuǎn)裝置進(jìn)一步包括：旋轉(zhuǎn)支架，其沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；襯底，其位于所述旋轉(zhuǎn)支架上，并沿所述旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；以及局部加熱裝置，其靠近所述襯底；所述局部加熱裝置不沿所述旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；所述旋轉(zhuǎn)支架包括固定部分和旋轉(zhuǎn)部分，其中所述局部加熱裝置安裝在所述固定部分；所述蒸發(fā)室進(jìn)一步包括：加熱源，經(jīng)配置以加熱基板承載裝置上的基板；以及熱電偶，其經(jīng)配置以監(jiān)測(cè)基板的溫度；其中所述加熱源靠近所述基板承載裝置，并與所述基板承載裝置相間隔；其中所述熱電偶位于所述加熱源上或者所述基板承載裝置上。

2.一種制備薄膜的方法，包括：在濺射室內(nèi)，在襯底上鍍制金屬前驅(qū)物；以及在蒸發(fā)室內(nèi)，所述金屬前驅(qū)物鍍至所述蒸發(fā)室內(nèi)的基板；所述濺射室和蒸發(fā)室是可連通的；進(jìn)一步包括：對(duì)濺射室和蒸發(fā)室進(jìn)行真空處理；其中進(jìn)一步包括：蒸發(fā)室內(nèi)填充金屬氣氛；所述鍍制金屬前驅(qū)物包括同時(shí)將多種發(fā)射源靶材直接濺射到襯底上；所述鍍制金屬前驅(qū)物包括在不同時(shí)間將一種或幾種發(fā)射源靶材濺射到襯底上，形成不同金屬前驅(qū)物；進(jìn)一步包括旋轉(zhuǎn)所述襯底至所述基板前方；將所述金屬前驅(qū)物鍍至所述蒸發(fā)室內(nèi)的基板包括加熱襯底或襯底的一部分蒸發(fā)金屬前驅(qū)物；所述加熱襯底或襯底的一部分蒸發(fā)金屬前驅(qū)物包括：在第一溫度T1蒸發(fā)In和Ga；在第二溫度T2蒸發(fā)Cu，形成富銅相；在第三溫度T3蒸發(fā)In和Ga，形成貧銅相；在第一溫度T1、第二溫度T2和第三溫度T3蒸發(fā)時(shí)都包括硒鍍制步驟；包括：利用濺射方法鍍制金屬前驅(qū)物；以及利用蒸發(fā)方法將所述金屬前驅(qū)物鍍至基板上。