[發(fā)明專(zhuān)利]一種掃描式X射線源及其成像系統(tǒng)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810694166.6
• 申請(qǐng)日: 2018-06-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108777248A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔志立;高建;邢金輝
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 北京納米維景科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J35/30
• 分類(lèi)號(hào): H01J35/30;H01J35/04;H01J35/14
• 代理公司: 北京汲智翼成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11381
• 代理人: 陳曦;董燁飛

1.一種掃描式X射線源，其特征在于包括真空腔體，所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有陰極與多個(gè)陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)，所述真空腔體內(nèi)靠近所述陰極的位置設(shè)置有柵極，所述真空腔體內(nèi)靠近所述柵極的位置設(shè)置有聚焦極，所述真空腔體的外周并靠近所述柵極的位置設(shè)置有偏轉(zhuǎn)線圈；

所述控制柵極將所述陰極產(chǎn)生的電子束依次經(jīng)過(guò)所述聚焦極的聚焦、所述偏轉(zhuǎn)線圈的運(yùn)動(dòng)方向控制后，按照預(yù)設(shè)規(guī)則逐個(gè)轟擊對(duì)應(yīng)的所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)的靶面，并從所述靶面的轟擊側(cè)產(chǎn)生X射線，形成按照預(yù)設(shè)排列形狀排布的多個(gè)焦點(diǎn)。

2.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

當(dāng)采用至少一個(gè)所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)產(chǎn)生并出射窄束X射線，且所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)采用整體式反射靶時(shí)，所述整體式反射靶的上表面設(shè)置有散熱塊，所述散熱塊的上表面設(shè)置有鋼板，所述鋼板上按照線陣形式排布有多個(gè)準(zhǔn)直孔，所述準(zhǔn)直孔對(duì)應(yīng)于一個(gè)鈹窗，形成多個(gè)X射線的出射口。

3.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

當(dāng)采用至少一個(gè)所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)產(chǎn)生并出射窄束X射線，且所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)以陣列形式排布時(shí)，所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)采用獨(dú)立個(gè)體式反射靶，所述獨(dú)立個(gè)體式反射靶的上表面設(shè)置有散熱塊，所述散熱塊的上表面設(shè)置有鋼板，所述鋼板上對(duì)應(yīng)于所述獨(dú)立個(gè)體式反射靶設(shè)置有準(zhǔn)直孔，所述準(zhǔn)直孔對(duì)應(yīng)于一個(gè)鈹窗，形成多個(gè)X射線的出射口。

4.如權(quán)利要求2或3所述的掃描式X射線源，其特征在于：

所述準(zhǔn)直孔內(nèi)嵌于所述鋼板，所述鈹窗內(nèi)嵌于所述散熱塊和所述鋼板上并貫穿對(duì)應(yīng)的所述準(zhǔn)直孔。

5.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

當(dāng)采用至少一個(gè)所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)產(chǎn)生并出射寬束X射線，且所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)采用整體式反射靶時(shí)，所述整體式反射靶的下表面設(shè)置有散熱塊，所述整體式反射靶的上表面設(shè)置有鋼板，所述鋼板上按照線陣形式排布有多個(gè)準(zhǔn)直孔，所述準(zhǔn)直孔對(duì)應(yīng)于鈹窗，形成多個(gè)X射線的出射口。

6.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

當(dāng)采用至少一個(gè)所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)產(chǎn)生并出射寬束X射線，且所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)以陣列形式排布時(shí)，所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)采用獨(dú)立個(gè)體式反射靶，所述獨(dú)立個(gè)體式反射靶的上表面設(shè)置有鋼板，所述獨(dú)立個(gè)體式反射靶的下表面設(shè)置有鋼板，所述鋼板上對(duì)應(yīng)于所述獨(dú)立個(gè)體式反射靶設(shè)置有準(zhǔn)直孔；所述準(zhǔn)直孔對(duì)應(yīng)于鈹窗，形成多個(gè)X射線的出射口。

7.如權(quán)利要求5或6所述的掃描式X射線源，其特征在于：

所述準(zhǔn)直孔內(nèi)嵌于所述鋼板，所述鈹窗內(nèi)嵌于所述鋼板上并貫穿對(duì)應(yīng)的所述準(zhǔn)直孔。

8.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

所述掃描式X射線源配設(shè)有柵控開(kāi)關(guān)，所述柵控開(kāi)關(guān)通過(guò)支架與所述真空腔體固定，所述柵控開(kāi)關(guān)的輸出端通過(guò)導(dǎo)線連接至所述柵極，所述柵控開(kāi)關(guān)與柵控電源連接，所述柵控電源與外部高壓電源連接。

9.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

所述偏轉(zhuǎn)線圈包括X方向偏轉(zhuǎn)線圈和Y方向偏轉(zhuǎn)線圈，所述X方向偏轉(zhuǎn)線圈和所述Y方向偏轉(zhuǎn)線圈分別設(shè)置有控制接口，所述控制接口分別與主控電路連接，所述主控電路對(duì)所述X方向偏轉(zhuǎn)線圈和所述Y方向偏轉(zhuǎn)線圈的所述控制接口分別施加預(yù)設(shè)的電壓波形，實(shí)現(xiàn)控制所述陰極產(chǎn)生的電子束的運(yùn)動(dòng)方向。

10.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

當(dāng)采用一個(gè)所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)產(chǎn)生并出射X射線，且所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)采用整體式反射靶時(shí)，所述陰極發(fā)射出的電子束正對(duì)所述整體式反射靶的靶面。

11.如權(quán)利要求1所述的掃描式X射線源，其特征在于：

當(dāng)采用多個(gè)以線陣形式排布的所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)產(chǎn)生并出射X射線，且所述陽(yáng)極靶結(jié)構(gòu)采用獨(dú)立個(gè)體式反射靶時(shí)，所述陰極發(fā)射出的電子束正對(duì)所述獨(dú)立個(gè)體式反射靶的靶面。

12.一種成像系統(tǒng)，其特征在于包括權(quán)利要求1～11中任意一項(xiàng)所述的掃描式X射線源。