[發明專利]一種新型鈦基氧化錫陽電極及其制備方法在審
| 申請號： | 201810691711.6 | 申請日： | 2018-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN110655150A | 公開（公告）日： | 2020-01-07 |
| 發明（設計）人： | 周檢 | 申請（專利權）人： | 杭州睿清環?？萍加邢薰?/a> |
| 主分類號： | C02F1/461 | 分類號： | C02F1/461;C02F1/72;C02F101/30 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市杭州經濟技術開*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陽電極 氧化錫 鈦基 氧化錫涂層 共摻雜 電極制備工藝 銻摻雜氧化錫 高析氧電位 參比電極 化學穩定 設備要求 使用壽命 析氧電位 氯化銀 參比 多層 構建 制備 改良 制造 保證 | ||
1.一種新型鈦基氧化錫陽電極，其特征在于在鈦基底上依次涂覆鎳、銅共摻雜氧化錫涂層和銻摻雜氧化錫涂層。
2.一種新型鈦基氧化錫陽電極的制備方法，其特征在于包括以下步驟：
1）將鈦基體作為鎳、銅共摻雜氧化錫涂層和銻摻雜氧化錫涂層的支撐材料；對鈦基體表面的油漬等有機污染物以及二氧化鈦膜進行去除，最后依次用酒精，去離子水清洗后，快速用氮氣吹干，待用；
2）配制同時含有錫、鎳、銅的前軀體溶液和同時含有錫、銻的前驅體溶液；
3）將含有錫、鎳、銅的前軀體溶液涂敷在鈦基體表面，對其進行烘干、煅燒，并重復多次，得到鈦基鎳、銅共摻雜氧化錫涂層；
4）將含有錫、銻的前軀體溶液涂敷在上述的鈦基鎳、銅摻雜氧化錫涂層表面，并對其進行烘干、煅燒，并重復多次，最終得到具有高析氧電位、長壽命的鈦基氧化錫陽電極。
3.如權利要求1所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極或如權利要求2所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極的制備方法，其特征在于鎳、銅共摻雜氧化錫涂層為該陽電極的中間層。
4.如權利要求1所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極或如權利要求2所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極的制備方法，其特征在于所述的鎳、銅共摻雜氧化錫涂層中的鎳、銅摻雜濃(mol%)度在3-20%。
5.如權利要求1所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極或如權利要求2所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極的制備方法，其特征在于所述的鎳、銅共摻雜氧化錫涂層中的鎳摻雜濃度(mol%)在15-20%。
6.如權利要求1所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極或如權利要求2所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極的制備方法，其特征在于所述的鎳、銅共摻雜氧化錫涂層中的Cu摻雜濃度(mol%)在18-20%。
7.如權利要求1所述的一種新型鈦基氧化錫陽電極的用途，其特征在用于電化學催化氧化處理工業有機廢水。
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