[發明專利]一種加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器及其制備方法在審
| 申請號: | 201810688147.2 | 申請日: | 2018-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN108879034A | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發明(設計)人: | 王軍;婁菁;馬華;屈紹波;王甲富;董博文;馮明德 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍空軍工程大學 |
| 主分類號: | H01P1/18 | 分類號: | H01P1/18;H01P11/00 |
| 代理公司: | 西安銘澤知識產權代理事務所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 俞曉明 |
| 地址: | 710051 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鐵電薄膜 傳輸結構 移相器 金屬層 阻抗匹配 電極 加載 制備 共面波導結構 過渡結構 襯底 傳輸 調諧 金屬粘附層 鐵電薄膜層 傳輸效率 移相功能 可調諧 粘附層 沉積 低介 介電 刻蝕 成型 束縛 | ||
1.一種加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器,其特征在于,包括:低介襯底(01)、鐵電薄膜(02)、金屬層(03),所述鐵電薄膜(02)及所述金屬層(03)依次設置在所述低介襯底(01)上;所述金屬層(03)包括位于同一水平面的電極(31)、阻抗匹配區(32)及SSPP傳輸結構(33),所述電極(31)設置在所述SSPP傳輸結構(33)兩側,所述阻抗匹配區(32)設置在所述SSPP傳輸結構(33)的兩端;所述阻抗匹配區(32)包括共面波導結構(32a)及過渡結構(32b),且所述過渡結構(32b)靠近所述SSPP傳輸結構(33),所述共面波導結構(32a)遠離所述SSPP傳輸結構;所述阻抗匹配區(32)及所述SSPP傳輸結構(33)為齒狀結構,且所述阻抗匹配區(32)的金屬齒與所述SSPP傳輸結構(33)的金屬齒垂直,所述過渡結構(32b)的金屬齒的寬度沿遠離所述共面波導結構(32a)的方向逐漸減小。
2.根據權利要求1所述的加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器,其特征在于,所述低介襯底(01)與所述鐵電薄膜(02)之間設置粘附層(021)。
3.根據權利要求1所述的加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器,其特征在于,所述鐵電薄膜(02)與所述金屬層(03)之間設有金屬粘附層(031)。
4.根據權利要求1所述的加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器,其特征在于,所述金屬層(03)上設有保護層。
5.根據權利要求1所述的加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器,其特征在于,兩個所述電極(31)與所述SSPP傳輸結構(33)之間留有間隙。
6.根據權利要求1-5任一項所述的加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器,其特征在于,所述低介襯底為硅、氧化鎂、氧化鋁或鋁酸鑭,所述鐵電薄膜為鈦酸鍶鋇或鋯鈦酸鉛薄膜,所述金屬層為銅、鋁、鉑金或金。
7.一種用于制備權利要求1所述的加載鐵電薄膜的SSPP傳輸移相器的制備方法,其特征在于:
S1,在低介襯底上沉積粘附層;
S2,在所述粘附層上沉積鐵電薄膜,并做退火處理;
S3,在所述鐵電薄膜沉積金屬粘附層;
S4,在所述金屬粘附層上沉積金屬層;
S5,在所述金屬層上進行電極、共面波導結構、過渡結構及SSPP傳輸結構刻蝕;
S6,在所述金屬層上沉積保護層。
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