[發(fā)明專利]顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810685337.9
• 申請(qǐng)日: 2018-06-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110658650A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丁景隆;朱明輝;林芳禾;陳嘉倫;陳彥良
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 群創(chuàng)光電股份有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13357
• 分類號(hào): G02F1/13357
• 代理公司: 31100 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 駱希聰

1.一種顯示裝置，其特征在于，包括：

背光模塊，包含：

基板；

背光腔，位于所述基板上；

發(fā)光元件，設(shè)置于所述背光腔中；以及

光學(xué)調(diào)整層，覆蓋所述發(fā)光元件，并填充所述背光腔的剩余空間，其中所述光學(xué)調(diào)整層具有折射率n，n大于空氣的折射率n₀。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述背光模塊更包括：

擴(kuò)散層，位于所述背光腔上；以及

側(cè)壁，連接所述基板與所述擴(kuò)散層；

其中所述擴(kuò)散層、所述側(cè)壁與所述基板定義出所述背光腔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述光學(xué)調(diào)整層包括介質(zhì)，所述介質(zhì)的材料包含聚硅氧樹(shù)脂、或壓克力。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述光學(xué)調(diào)整層包括介質(zhì)及擴(kuò)散粒子，所述擴(kuò)散粒子分布于所述介質(zhì)中，所述擴(kuò)散粒子具有折射率n_d，n_d大于所述介質(zhì)的折射率n_m。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述光學(xué)調(diào)整層包括第一光學(xué)調(diào)整層和第二光學(xué)調(diào)整層，所述第二光學(xué)調(diào)整層設(shè)置于所述第一光學(xué)調(diào)整層上，所述第一光學(xué)調(diào)整層具有折射率n₁，所述第二光學(xué)調(diào)整層具有折射率n₂，n₂不等于n₁。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置，其特征在于，所述背光模塊更包括磷光結(jié)構(gòu)，所述磷光結(jié)構(gòu)位于所述背光腔中，并分別對(duì)應(yīng)地包覆所述發(fā)光元件。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述背光模塊更包括遮光元件，所述遮光元件位于所述背光腔中，并分別對(duì)應(yīng)地位于所述發(fā)光元件上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述背光模塊更包括磷光層，所述磷光層位于所述背光腔中，且所述光學(xué)調(diào)整層位于所述基板與所述磷光層間。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述背光腔具有背光腔厚度OD，OD小于或等于2mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述光學(xué)調(diào)整層包括介質(zhì)及擴(kuò)散粒子，所述擴(kuò)散粒子分布于所述介質(zhì)中，所述擴(kuò)散粒子占所述光學(xué)調(diào)整層的0.01wt％至90wt％。