[發(fā)明專利]一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液系統(tǒng)及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810683149.2 | 申請日: | 2018-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN108531914A | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李朝林;羅海健;周明明 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué)深圳研究生院 |
| 主分類號: | C23F1/46 | 分類號: | C23F1/46;C25C1/12;C25C7/00;C23F1/18 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 任志龍 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微蝕刻 廢液 同步再生 微蝕刻液 陽極液 室內(nèi) 陰極 陽極 電解槽 金屬銅 銅回收 儲槽 電解回收金屬 直流電 蝕刻 金屬銅回收 硫酸鹽廢液 電解過程 廢液回收 循環(huán)利用 蝕刻液 陰極件 排出 電解 通電 儲存 再生 回收 重復(fù) | ||
1.一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液裝置,其特征在于,包括第一電解槽(1),所述第一電解槽(1)內(nèi)設(shè)有將所述第一電解槽(1)分隔為陽極室(2)和陰極室(3)的離子交換膜(4),所述陽極室(2)內(nèi)設(shè)有供微蝕刻廢液中的硫酸根離子在其表面發(fā)生電化學(xué)氧化反應(yīng)的陽極件(5),所述陰極室(3)設(shè)有供微蝕刻廢液中的銅離子在其表面發(fā)生電化學(xué)還原反應(yīng)的陰極件(6),所述陽極件(5)和陰極件(6)之間連接有第一電源(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液裝置,其特征在于,所述陽極件(5)為具有高析氧電位的貴金屬鉑、摻硼金剛石電極、石墨電極、復(fù)合有稀土元素的鈦基片或鈮基片、IrO2電極、RuO2電極、TiO2電極、PbO2/TiO2電極、SnO2電極中的任意一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液裝置,其特征在于,所述陰極件(6)為銅片、不銹鋼片、鉛電極、鉛銻合金片、石墨電極、鈦電極、復(fù)合有過渡金屬元素的鈦基板中的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液裝置,其特征在于,所述陽極室(2)連通有補充微蝕刻液循環(huán)再生過程中損失組分的調(diào)節(jié)裝置(8)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液裝置,其特征在于,所述第一電解槽(1)連通有對所述第一電解槽(1)進行降溫的冷卻裝置(9)。
6.一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液系統(tǒng),其特征在于,包括如權(quán)利要求1-5中任意一項所述一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液裝置,還包括:
與所述陽極室(2)連通、用于回收所述陽極室(2)內(nèi)經(jīng)陽極件(5)電化學(xué)氧化循環(huán)再生的微蝕刻液的蝕刻機微蝕刻液儲槽(12);
與所述蝕刻機微蝕刻液儲槽(12)連通、用于收集所述蝕刻機微蝕刻液儲槽(12)排出的微蝕刻廢液的微蝕刻廢液儲槽(10),所述微蝕刻廢液儲槽(10)向所述陰極室(3)提供陰極液;以及,
與所述陰極室(3)和所述陽極室(2)連通、用于儲存所述陰極室(3)內(nèi)經(jīng)過電解回收金屬銅后的微蝕刻廢液并為所述陽極室(2)提供陽極液的陽極液儲槽(11)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種H2SO4/S2O82-微蝕刻廢液的銅回收及同步再生微蝕刻液系統(tǒng),其特征在于,所述第一電解槽(1)的陽極室(2)和所述微蝕刻廢液儲槽(10)之間連通有無隔膜的第二電解槽(13),所述第二電解槽(13)內(nèi)設(shè)有電解裝置(14),所述微蝕刻廢液儲槽(10)內(nèi)的微蝕刻廢液經(jīng)過所述電解裝置(14)回收金屬銅后導(dǎo)向所述第一電解槽(1)的陽極室(2)。
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