[發明專利]硅烷偶聯劑材料、柔性PI基板的制作方法及柔性PI基板半成品在審
| 申請號: | 201810681608.3 | 申請日: | 2018-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN108794747A | 公開(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發明(設計)人: | 蘭松 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | C08G73/10 | 分類號: | C08G73/10;G02F1/1333;G09F9/30 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產權代理事務所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基板 硅烷偶聯劑 制作 基板半成品 玻璃基板 化學鍵合 顯示器件 粘結層 過程中發生翹曲 玻璃基板表面 材料形成 緊密連接 制作過程 翹曲 應用 | ||
1.一種硅烷偶聯劑材料,其特征在于,結構通式為
其中,X指的是-NH2或-COOH;
R1、R2與R3指的是氯基、甲氧基與乙氧基中的一種;
Sp指的是以下三種基團中的一種:
(1)具有2~20個C原子的直鏈或支鏈化的烷基;
(2)具有2~20個C原子的直鏈或支鏈化的烷基中一個或多個CH2基團被苯基、環烷基、-CONH-、-COO-、-O-CO-、-S-、-CO-或-CH=CH-取代所得到的基團;
(3)具有2~20個C原子的直鏈或支鏈化的烷基中一個或多個H原子被F或Cl原子取代所得到的基團。
2.如權利要求1所述的硅烷偶聯劑材料,其特征在于,R1、R2與R3相同。
3.如權利要求2所述的硅烷偶聯劑材料,其特征在于,所述硅烷偶聯劑材料包括以下化合物中的一種或多種:
4.一種柔性PI基板的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟S1、提供一玻璃基板(10),在所述玻璃基板(10)上均勻涂布硅烷偶聯劑溶液,對玻璃基板(10)上的有硅烷偶聯劑溶液進行烘烤固化形成粘結層(20);所述硅烷偶聯劑溶液包括第一溶劑及如權利要求1-3任一項所述的硅烷偶聯劑材料;
步驟S2、在所述粘結層(20)上均勻涂布PI液,對所述粘結層(20)上的PI液進行初步烘烤固化形成PI薄膜(25);
步驟S3、對所述粘結層(20)上的PI薄膜(25)進行烘烤固化形成PI基板(30)。
5.如權利要求4所述的柔性PI基板的制作方法,其特征在于,所述硅烷偶聯劑溶液中,硅烷偶聯劑材料的質量百分比為1~20%。
6.如權利要求4所述的柔性PI基板的制作方法,其特征在于,所述PI液包括第二溶劑與PAA;
所述步驟S3的具體步驟為:先對所述粘結層(20)上的PI薄膜(25)進行前烘烤制程,以使PI薄膜(25)內部的PAA脫水轉化為PI,然后再進行后烘烤制程,以使PAA脫水轉完全化為PI,所述后烘烤制程的烘烤溫度高于所述前烘烤制程的烘烤溫度。
7.如權利要求6所述的柔性PI基板的制作方法,其特征在于,所述步驟S1中,所述烘烤固化的溫度為100~150℃,時間為100~500s;
所述步驟S2中,所述初步烘烤固化的溫度為100~120℃,時間為5~20min;
所述步驟S3中,所述前烘烤制程的烘烤溫度為200~250℃,時間為20~60min;所述后烘烤制程的烘烤溫度為300~350℃,時間為5~15min。
8.如權利要求4所述的柔性PI基板的制作方法,其特征在于,還包括:步驟S4、通過激光鐳射的方式將所述PI基板(30)與粘結層(20)剝離。
9.一種柔性PI基板半成品,其特征在于,包括玻璃基板(10)、設于所述玻璃基板(10)上的粘結層(20)以及設于所述粘結層(20)上的PI基板(30),所述粘結層(20)的材料包括如權利要求1-3任一項所述的硅烷偶聯劑材料。
10.如權利要求9所述的柔性PI基板半成品,其特征在于,還包括設于所述PI基板(30)上的保護層(40)。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市華星光電技術有限公司,未經深圳市華星光電技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810681608.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





