[發明專利]位置檢測裝置、位置檢測方法以及蒸鍍裝置有效
| 申請號: | 201810679701.0 | 申請日: | 2018-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN109554662B | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發明(設計)人: | 吉田雄一;坂內雄也;柳堀文嗣 | 申請(專利權)人: | 株式會社愛發科 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司: | 上海和躍知識產權代理事務所(普通合伙) 31239 | 代理人: | 余文娟 |
| 地址: | 日本國神奈川*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 位置 檢測 裝置 方法 以及 | ||
本發明提供能夠提高基板位置的檢測精度的位置檢測裝置、位置檢測方法以及蒸鍍裝置。圖像處理部(20)根據正面攝像部的各照相機(11)對基板標記(Wm)進行攝像的結果算出正面攝像部的照相機(11)間的相對位置,并使用該照相機(11)間的相對位置和正面攝像部的各照相機(11)對處理基板(W)進行攝像的結果算出基于正面攝像的處理基板(W)的位置,并且根據背面攝像部的各照相機(12)對基板標記(Wm)的透射圖像進行攝像的結果算出背面攝像部的照相機(12)間的相對位置,并使用該照相機(12)間的相對位置和背面攝像部的各照相機(12)對處理基板(W)進行攝像的結果算出基于背面攝像的處理基板(W)的位置。
技術領域
本發明涉及對基板的位置進行檢測的位置檢測裝置、位置檢測方法、以及具備位置檢測裝置的蒸鍍裝置。
背景技術
蒸鍍裝置在基板的成膜面與蒸鍍源之間配置蒸鍍掩模,將模仿蒸鍍掩模的開口的形狀的圖案形成于基板的成膜面。蒸鍍裝置由作為基板的對準標記的基板標記算出基板的位置。蒸鍍裝置調整基板的位置、蒸鍍掩模的位置以使得算出的基板的位置和蒸鍍掩模的位置一致(例如參照專利文獻1)。
專利文獻1:日本特開2013-1947號公報
發明內容
但是,上述的基板標記通常位于基板的成膜面,檢測基板標記的檢測部相對于成膜面位于與蒸鍍源相同的一側。另一方面,相對于成膜面的蒸鍍源側的空間是用蒸鍍源升華的蒸鍍物質飛行的空間,在位于該空間的檢測部的光學系統沉積很多蒸鍍物質。在蒸鍍物質沉積于光學系統的檢測部,不能精度良好地檢測基板標記,因此期望在上述的蒸鍍裝置中將基板和蒸鍍掩模的對位精度提高的技術。此外,精度良好地檢測基板位置的要求不限于進行基板和蒸鍍掩模的對位的蒸鍍裝置,在檢測基板位置的裝置中共用。
本發明的目的是提供能夠提高基板位置的檢測精度的位置檢測裝置、位置檢測方法以及蒸鍍裝置。
一個方式是對作為非透射性基板的處理基板的位置進行檢測的位置檢測裝置。位置檢測裝置使用作為透光性基板的校正用基板。校正用基板的正面具備多個基板標記。所述位置檢測裝置具備正面攝像部和背面攝像部,該正面攝像部包括各自與所述多個基板標記中的一個對應起來的多個照相機,該背面攝像部包括各自與所述多個基板標記中的一個對應起來的多個照相機。所述位置檢測裝置進一步具備圖像處理部。圖像處理部根據所述正面攝像部的多個照相機對所述校正用基板的多個基板標記進行攝像的結果算出所述正面攝像部的照相機間的相對位置,并使用所述正面攝像部的照相機間的相對位置和所述正面攝像部的多個照相機對所述處理基板進行攝像的結果算出基于正面攝像的所述處理基板的位置。另外,所述圖像處理部根據所述背面攝像部的多個照相機對所述校正用基板的多個基板標記的透射圖像進行攝像的結果算出所述背面攝像部的照相機間的相對位置,并使用所述背面攝像部的照相機間的相對位置和所述背面攝像部的多個照相機對所述處理基板進行攝像的結果算出基于背面攝像的所述處理基板的位置。
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