[發(fā)明專利]顯示面板及其制造方法、液晶顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810679109.0 | 申請日: | 2018-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN108873426B | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王美紅 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制造 方法 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
提供第一基板和第二基板;
在所述第一基板或第二基板上涂布框膠;
在所述框膠限定的區(qū)域內(nèi)滴注液晶溶液,所述液晶溶液包括液晶分子、反應(yīng)性單體、光引發(fā)劑以及阻聚劑,其中,所述反應(yīng)性單體的濃度比例為10%~20%,光引發(fā)劑的濃度比例為1%~2%,阻聚劑的濃度比例為0.1%~0.5%;
將所述第一基板和第二基板對盒并形成位于兩者之間的液晶盒;
使用UV光照射所述液晶盒,并在顯示面板的子像素區(qū)域之外形成照射區(qū)而在所述子像素區(qū)域形成非照射區(qū),所述反應(yīng)性單體在所述光引發(fā)劑的作用下在所述照射區(qū)聚合形成上下兩端分別與所述第一基板和第二基板連接的聚合物墻,所述阻聚劑在所述照射區(qū)和非照射區(qū)的邊界聚集并用于降低所述光引發(fā)劑的自由基離子的活性,以阻止所述反應(yīng)性單體在所述照射區(qū)和非照射區(qū)的邊界聚集,所述阻聚劑使得所述聚合物墻僅形成于所述照射區(qū),避免所述聚合物墻占據(jù)所述顯示面板的顯示區(qū),有利于確保所述顯示面板的開口率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述阻聚劑包括酚類阻聚劑、醌類阻聚劑、以及抗氧化劑中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述使用UV光對所述液晶盒進行照射的步驟,包括:
在所述UV光的光源和所述液晶盒之間設(shè)置光罩,所述光罩的非透光區(qū)與所述顯示面板的子像素區(qū)域重疊設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一基板設(shè)置有與所述顯示面板的子像素區(qū)域重疊設(shè)置的彩色濾光片,
所述使用UV光對所述液晶盒進行照射的步驟,包括:
使用UV光從所述第一基板一側(cè)對所述液晶盒進行照射,所述彩色濾光片阻擋所述UV光透過。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述第一基板還設(shè)置有位于相鄰所述彩色濾光片之間的黑矩陣,且所述黑矩陣設(shè)置于所述聚合物墻之外的區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5任一項所述的方法,其特征在于,所述第一基板和第二基板均為柔性基板。
7.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括相對間隔的第一基板和第二基板、以及設(shè)置于兩者之間的液晶盒,所述液晶盒是其內(nèi)滴注的包括液晶分子、濃度比例為10%~20%的反應(yīng)性單體、濃度比例為1%~2%的光引發(fā)劑及濃度比例為0.1%~0.5%的阻聚劑在內(nèi)的液晶溶液經(jīng)過UV光照射反應(yīng)后的液晶盒,使得所述顯示面板的相鄰子像素區(qū)域之間形成有所述反應(yīng)性單體在光引發(fā)劑作用下聚合形成的聚合物墻,所述阻聚劑用于降低所述光引發(fā)劑的自由基離子的活性以阻止所述反應(yīng)性單體在所述子像素區(qū)域和聚合物墻的邊界聚集,所述阻聚劑使得所述聚合物墻僅形成于照射區(qū),避免所述聚合物墻占據(jù)所述顯示面板的顯示區(qū),有利于確保所述顯示面板的開口率。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述阻聚劑包括酚類阻聚劑、醌類阻聚劑、以及抗氧化劑中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述第一基板和第二基板均為柔性基板。
10.一種液晶顯示裝置,其特征在于,所述液晶顯示裝置包括權(quán)利要求7~8任一項所述的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





