[發(fā)明專利]一種基于液晶可調(diào)介質(zhì)超表面構(gòu)造變焦透鏡的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810674943.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108873555A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳明;趙德平;苑立波;鄧洪昌;劉厚權(quán);滕傳新;鄧仕杰;楊海燕;徐榮輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 桂林電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02F1/29 | 分類號(hào): | G02F1/29 |
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| 地址: | 541004 廣西*** | 國(guó)省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 表面結(jié)構(gòu) 液晶 變焦透鏡 表面構(gòu)造 表面器件 電極 可調(diào) 調(diào)諧 變焦功能 動(dòng)態(tài)可調(diào) 工作帶寬 功能單一 透鏡聚焦 電磁波 極化 液晶相 波長(zhǎng) 排布 響應(yīng) 應(yīng)用 | ||
1.一種基于液晶可調(diào)介質(zhì)超表面構(gòu)造變焦透鏡的方法,包括透明電極、液晶、超表面結(jié)構(gòu)。其特點(diǎn)在于包括以下步驟:
步驟(1).在波長(zhǎng)為1200nm~1500nm的近紅外工作帶寬內(nèi),根據(jù)超表面結(jié)構(gòu)對(duì)電磁波的異常響應(yīng)機(jī)制,通過(guò)對(duì)超表面結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì),找出一種具有高極化轉(zhuǎn)化率的超表面結(jié)構(gòu);
步驟(2).若要將入射的平面波聚焦于某一焦點(diǎn),根據(jù)透鏡的等光程原理,超表面結(jié)構(gòu)單元的排列需要滿足以下相位表達(dá)式:
就是超表面結(jié)構(gòu)應(yīng)滿足的相位,其中,x、y是超表面結(jié)構(gòu)所在位置的坐標(biāo)點(diǎn),λ是入射光波長(zhǎng),f是透鏡的焦距;
步驟(3).將超表面結(jié)構(gòu)放置于充滿液晶的透明電極中,根據(jù)Pancharatnam-Berry相位,旋轉(zhuǎn)超表面結(jié)構(gòu)一定角度即可滿足步驟(2)中的相位分布需求,此時(shí)即組成了一個(gè)固定焦點(diǎn)的透鏡;
步驟(4).當(dāng)改變電極間的電壓時(shí),超表面結(jié)構(gòu)的排列方向會(huì)隨著液晶分子排列方向的改變而改變,超表面結(jié)構(gòu)所提供的相位也發(fā)生變化,從而改變透鏡焦點(diǎn)的位置,形成一個(gè)變焦透鏡。
2.根據(jù)權(quán)力要求1所述的一種基于液晶可調(diào)介質(zhì)超表面構(gòu)造變焦透鏡的方法,步驟(1)其特征在于,所述超表面結(jié)構(gòu)的材料為硅,其幾何形狀為高0.925um、長(zhǎng)軸0.425um、短軸0.22um的橢圓柱型。
3.根據(jù)權(quán)力要求1所述的一種基于液晶可調(diào)介質(zhì)超表面構(gòu)造變焦透鏡的方法,在1200nm~1500nm工作波長(zhǎng)內(nèi),超表面結(jié)構(gòu)的極化轉(zhuǎn)化率達(dá)到80%以上。
4.根據(jù)權(quán)力要求1所述的一種基于液晶可調(diào)介質(zhì)超表面構(gòu)造變焦透鏡的方法,步驟(3)其特征在于,Pancharatnam-Berry相位即幾何相位,對(duì)于圓偏振光而言,若將超表面結(jié)構(gòu)旋轉(zhuǎn)一定角度θ,則可獲得2θ的幾何相位。
5.根據(jù)權(quán)力要求1所述的一種基于液晶可調(diào)介質(zhì)超表面構(gòu)造變焦透鏡的方法,步驟(4)其特征在于,超表面結(jié)構(gòu)以0.6um為周期排布于充滿液晶的電極中,每個(gè)超表面結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)一個(gè)像素,當(dāng)需要透鏡變焦時(shí),分別控制每個(gè)像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的電極間的電壓,使超表面結(jié)構(gòu)發(fā)生旋轉(zhuǎn),以提供相應(yīng)的相位,來(lái)達(dá)到變焦的目的。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





