[發(fā)明專利]一種高可見光活性石墨相氮化碳納米片及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810674429.7 | 申請日： | 2018-06-27 |
| 公開（公告）號： | CN108772093B | 公開（公告）日： | 2021-05-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 呂康樂;程金水;方順;伍曉鋒;李玫;李覃;丁耀彬;楊昌軍;唐和清 | 申請（專利權(quán)）人： | 中南民族大學(xué) |
| 主分類號： | B01J27/24 | 分類號： | B01J27/24;B01J35/02;B82Y30/00;C01B3/04;C01B21/06 |
| 代理公司： | 武漢宇晨專利事務(wù)所 42001 | 代理人： | 余曉雪 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 可見光 活性 石墨 氮化 納米 及其 制備 方法 | ||
1.一種高可見光活性石墨相氮化碳納米片，其特征在于：其制備方法依次包括如下步驟：
（1）將二氰二胺和水置于水熱反應(yīng)釜中，密封后升溫至200℃并保溫4h；
（2）待反應(yīng)釜溫度降至室溫，收集反應(yīng)釜中混合溶液，除去混合溶液中的水分，得到固態(tài)中間產(chǎn)物；
（3）取步驟（2）中所得固態(tài)中間產(chǎn)物，在靜態(tài)空氣氛圍下升溫至500-650℃并保溫煅燒3-5h，待其降至室溫，將所得的樣品研磨成粉末；所述步驟（1）中二氰二胺和水的質(zhì)量比為0.01-0.05:1。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高可見光活性石墨相氮化碳納米片，其特征在于：所述步驟（3）中在靜態(tài)空氣氛圍下升溫至550℃并保溫煅燒4h，升溫速率為5℃·min-1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高可見光活性石墨相氮化碳納米片，其特征在于：所述步驟（1）中反應(yīng)釜與二氰二胺的容積質(zhì)量比為100mL：1-3g。
4.一種權(quán)利要求1-3任一所述的高可見光活性石墨相氮化碳納米片在可見光催化分解水產(chǎn)氫中的應(yīng)用。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中南民族大學(xué)，未經(jīng)中南民族大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810674429.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 導(dǎo)電化合物上的大晶粒低電阻率鎢
- 基于六方氮化硼和磁控濺射氮化鋁的氮化鎵生長方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及制備方法及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 連續(xù)氮化處理爐和連續(xù)氮化處理方法
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
