[發(fā)明專利]陣列攝像模組測試方法及其標板裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810670527.3
• 申請日: 2018-06-26
• 公開（公告）號: CN110650330B
• 公開（公告）日: 2021-08-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 褚水佳;諸海江;陳哲
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波舜宇光電信息有限公司
• 主分類號: H04N17/00
• 分類號: H04N17/00
• 代理公司: 寧波理文知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 羅京;孟湘明

1.一標板裝置，所述標板裝置用于一陣列攝像模組的測試，其中，該陣列攝像模組包括一第一攝像模組和一第二攝像模組，該第一攝像模組具有一第一畸變值，該第二攝像模組具有一第二畸變值，其特征在于，包括：

一第一特征圖案，所述第一特征圖案用于測試該第一攝像模組；和

一第二特征圖案，所述第二特征圖案用于測試該第二攝像模組，其中，所述標板裝置具有一測試面，所述第一特征圖案和所述第二特征圖案集成于所述標板裝置的所述測試面，其中，在測試過程中，所述標板裝置的所述測試面對應于該陣列攝像模組；

其中所述第一特征圖案和所述第二特征圖案具有不同的尺寸配置，并且設(shè)所述第一特征圖案的尺寸參數(shù)為L1，所述第二特征圖案的尺寸參數(shù)為L2；其中所述第一攝像模組和所述第二攝像模組相對于所述標板裝置的放大倍率不同，設(shè)所述第一攝像模組相對于所述標板裝置的放大倍率為M1，所述第二攝像模組相對于所述標板裝置的放大倍率為M2；其中M1*L1=M2*L2。

2.如權(quán)利要求1所述的標板裝置，其中，所述第一特征圖案包括一系列第一基準標識，所述第一基準標識陣列地排布于所述測試面以形成所述第一特征圖案，所述第二特征圖案包括一系列第二基準標識，所述第二基準標識陣列地排布于所述測試面以形成所述第二特征圖案，其中，所述第一基準標識的邊具有相對所述第一畸變值的一第一曲率，以及，所述第一基準標識的邊具有相對所述第二畸變值的一第二曲率。

3.如權(quán)利要求2所述的標板裝置，其中，所述第一曲率隨著所述第一基準標識與所述測試面中心區(qū)域之間的距離增加而增加。

4.如權(quán)利要求2所述的標板裝置，其中，所述第二曲率隨著所述第二基準標識與所述測試面中心區(qū)域之間的距離增加而增加。

5.如權(quán)利要求3所述的標板裝置，其中，該第一攝像模組具有一第一視場，該第二攝像模組具有一第二視場，其中，所述第二視場位于所述第一視場內(nèi)，其中，所述第一基準標識能夠以邊對邊的方式陣列排布以形成所述第一特征圖案，所述第二基準標識能夠以邊對邊的方式陣列排布以形成所述第二特征圖案，其中，所述第二基準標識被收容于至少部分所述第一基準標識內(nèi)，通過這樣的方式，將所述第一特征圖案和所述第二特征圖案集成于所述標板裝置的所述測試面。

6.如權(quán)利要求4所述的標板裝置，其中，該第一攝像模組具有一第一視場，該第二攝像模組具有一第二視場，其中，所述第二視場位于所述第一視場內(nèi)，其中，所述第一基準標識能夠以邊對邊的方式陣列排布以形成所述第一特征圖案，所述第二基準標識能夠以邊對邊的方式陣列排布以形成所述第二特征圖案，其中，所述第二基準標識被收容于至少部分所述第一基準標識內(nèi)，通過這樣的方式，將所述第一特征圖案和所述第二特征圖案集成于所述標板裝置的所述測試面。

7.如權(quán)利要求3所述的標板裝置，其中，所述第一基準標識以相間隔的方式陣列排布以形成所述第一特征圖案，以及，所述第二基準標識以相間隔的方式陣列排布以形成所述第二特征圖案，其中，所述第二基準標識被設(shè)置于所述第一基準標識之間的間隔區(qū)域，通過這樣的方式，將所述第二特征圖案和所述第一特征圖案集成于所述標板裝置的所述測試面。

8.如權(quán)利要求4所述的標板裝置，其中，所述第一基準標識以相間隔的方式陣列排布以形成所述第一特征圖案，以及，所述第二基準標識以相間隔的方式陣列排布以形成所述第二特征圖案，其中，所述第二基準標識被設(shè)置于所述第一基準標識之間的間隔區(qū)域，通過這樣的方式，將所述第二特征圖案和所述第一特征圖案集成于所述標板裝置的所述測試面。

9.如權(quán)利要求1至8任一所述的標板裝置，還包括一載體，所述測試面設(shè)定于所述載體的表面，其中，所述第一特征圖案和所述第二特征圖案以特定模式集成于載體的所述測試面。