[發明專利]一種半導體激光器用解巴條的二分裂方法有效
| 申請號: | 201810665064.1 | 申請日: | 2018-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN108831850B | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發明(設計)人: | 賈旭濤;趙克寧;劉麗青;張廣明;肖成峰 | 申請(專利權)人: | 濰坊華光光電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/78;H01S5/22 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 261061 山東省濰坊市高*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 激光 器用 解巴條 分裂 方法 | ||
1.一種半導體激光器用解巴條的二分裂方法,其特征在于,包括如下步驟:
a)將一個完整的晶圓片(2),以垂直于大解離邊(2)的方向將晶圓片(2)平均等分成兩個半圓片(3);
b)將半圓片(3)放置到藍膜上,完成覆膜;
c)將覆膜后的半圓片(3)以取中心的方式劃制第一裂片線,第一裂片線平行于大解離邊(2),沿第一裂片線進行裂片操作將半圓片(3)分割成兩個等分的扇形片;
d)將扇形片以取中心的方式劃制第二裂片線,第二裂片線平行于第一裂片線,沿第二裂片線進行裂片操作將扇形片分割成兩個等分的晶圓塊;
e)判斷晶圓塊的寬度是否大于巴條(4)寬度的2-3倍,當晶圓塊的寬度小于巴條(4)寬度的2-3倍時停止裂片,當晶圓塊的寬度大于巴條(4)寬度的2-3倍時執行步驟f);
f)將晶圓塊以取中心的方式劃制裂片線,該裂片線平行于第二裂片線,沿裂片線進行裂片操作將晶圓塊分割;
g)將步驟f)分割后的晶圓塊按步驟e)的方法操作。
2.根據權利要求1所述的半導體激光器用解巴條的二分裂方法,其特征在于:步驟c)中裂片操作時,在半圓片(3)下端設置墊鐵(5),所述墊鐵(5)上端面為與水平面相平行的平面(6),平面(6)的外側端為斜面(7),所述斜面(7)與平面(6)的夾角處形成沿墊鐵(5)長度方向延伸的脊線(8),半圓片(3)的下端與平面(6)相接觸,第一裂片線與脊線(8)相重合。
3.根據權利要求1所述的半導體激光器用解巴條的二分裂方法,其特征在于:步驟d)中裂片操作時,在扇形片下端設置墊鐵(5),所述墊鐵(5)上端面為與水平面相平行的平面(6),平面(6)的外側端為斜面(7),所述斜面(7)與平面(6)的夾角處形成沿墊鐵(5)長度方向延伸的脊線(8),扇形片的下端與平面(6)相接觸,第二裂片線與脊線(8)相重合。
4.根據權利要求1所述的半導體激光器用解巴條的二分裂方法,其特征在于:步驟f)中裂片操作時,在晶圓塊下端設置墊鐵(5),所述墊鐵(5)上端面為與水平面相平行的平面(6),平面(6)的外側端為斜面(7),所述斜面(7)與平面(6)的夾角處形成沿墊鐵(5)長度方向延伸的脊線(8),晶圓塊的下端與平面(6)相接觸,裂片線與脊線(8)相重合。
5.根據權利要求1所述的半導體激光器用解巴條的二分裂方法,其特征在于:步驟c)、步驟d)以及步驟f)中裂片操作時,使用滾輪(9)沿第一裂片線、第二裂片線以及裂片線的方向滾壓進行裂片,所述滾輪(9)上沿圓周方向設置有兩個環形的凸起(10),兩個環形凸起(10)之間的間距與巴條(4)的寬度相配。
6.根據權利要求1所述的半導體激光器用解巴條的二分裂方法,其特征在于:步驟c)、步驟d)以及步驟f)中裂片操作時,在顯微鏡下進行,所述顯微鏡鏡頭的十字線分布與第一裂片線、第二裂片線以及裂片線的方向相重合。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





