[發(fā)明專利]光錐耦合工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810660783.4 | 申請日: | 2018-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN108845394B | 公開(公告)日: | 2020-07-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于渝 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶港宇高科技開發(fā)有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/42 | 分類號: | G02B6/42 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 熊萬里 |
| 地址: | 401121 重慶市北部新區(qū)星*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 耦合 工藝 | ||
本發(fā)明涉及感光元件技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種光錐耦合工藝。包括以下步驟:準(zhǔn)備原材料套筒、CCD和光錐并清潔;拆除CCD的光窗;套筒的底部與CCD固定連接,并成像檢測CCD;光錐的小徑端定位安裝在套筒上,并調(diào)整光錐直至與CCD檢測成像清晰,固定光錐和套筒;干燥存儲。本發(fā)明的有益效果是:耦合操作簡單,工藝簡單,并且拆除了CCD的光窗,提高了成像質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及感光元件技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種光錐耦合工藝。
背景技術(shù)
光錐和CCD(CCD即為傳感器)耦合可以提高CCD耦合器件的成像質(zhì)量,應(yīng)用十分廣泛。傳統(tǒng)的光錐和CCD在耦合時(shí)是直接將光錐與CCD耦合,未對CCD進(jìn)行任何前期處理,光錐和CCD直接耦合得到的CCD耦合器件雖然成像質(zhì)量得到了一定的提高,但是還是無法滿足一些特種領(lǐng)域的應(yīng)用,而且傳統(tǒng)光錐耦合工藝操作復(fù)雜,在操作過程中容易損壞CCD,清潔度保證困難,耦合質(zhì)量差,影響產(chǎn)品后期使用。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于提供一種光錐耦合工藝,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中光錐與CCD耦合后的成像質(zhì)量無法滿足使用需求、耦合工藝復(fù)雜、耦合質(zhì)量差等問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種光錐耦合工藝,包括以下步驟:
準(zhǔn)備原材料套筒、CCD和光錐并清潔;
拆除CCD的光窗;
套筒的底部與CCD固定連接,并成像檢測CCD;
光錐的小徑端定位安裝在套筒上,并調(diào)整光錐直至與CCD檢測成像清晰,固定光錐和套筒;
干燥存儲。
本發(fā)明的有益效果是:耦合操作簡單,工藝簡單,并且拆除了CCD的光窗,提高了成像質(zhì)量。
進(jìn)一步,拆除CCD的光窗時(shí),將CCD放置到光窗加熱裝置上進(jìn)行加熱至220℃~300℃,撬動光窗使其脫離CCD。
進(jìn)一步,所述光窗加熱裝置包括底座和加熱臺,所述底座上設(shè)有用于安裝加熱臺的安裝槽,所述安裝槽內(nèi)設(shè)有電極插孔,所述加熱臺上設(shè)有與電極插孔配合的電極。
進(jìn)一步,所述加熱臺為PTC加熱模組,所述加熱臺上設(shè)有用于CCD針腳插入固定的插槽,將CCD針腳插入插槽內(nèi),CCD與加熱臺貼合,加熱臺對CCD加熱。
采用上述進(jìn)一步方案的有益效果是:加熱臺采用PTC加熱模組加熱,提高加熱溫度的穩(wěn)定性,使得加熱溫度恒定,避免取光窗時(shí)因加熱損傷了CCD,提高產(chǎn)品質(zhì)量。
進(jìn)一步,套筒與CCD連接時(shí),將套筒倒置在操作平臺上,將取掉光窗的CCD芯片光敏面朝下,CCD與套筒端部貼合,且CCD與套筒對中調(diào)整,調(diào)整后在CCD與套筒的接觸縫隙處點(diǎn)膠固定。
進(jìn)一步,將固定連接的套筒和CCD放置到成像工裝平臺上成像檢測是否有雜物,放置套筒和CCD時(shí),套筒朝上,CCD針腳朝下,且通過CCD針腳插入成像檢測裝置上的CCD針腳工位實(shí)現(xiàn)CCD的固定。
進(jìn)一步,光錐與套筒連接時(shí),通過記號筆在光錐的大端面做上標(biāo)記,將光錐裝入到銅片卡環(huán)上,將裝有光錐的銅片卡環(huán)裝入到成像工裝平臺,光錐小端面朝下對準(zhǔn)套筒,并升降調(diào)整光錐小端面與CCD芯片光敏面的距離。
進(jìn)一步,先粗調(diào)光錐小端面與CCD芯片光敏面的距離至5~10mm,再精調(diào)光錐小端面與CCD芯片光敏面的距離至1~2mm;粗調(diào)時(shí),通過成像工裝平臺觀察標(biāo)記圖像是否清晰,若標(biāo)記圖像模糊,通過塞尺重復(fù)將標(biāo)記圖像模糊側(cè)的光錐每次向下移動0~1mm直至標(biāo)記圖像清晰;精調(diào)時(shí),通過成像工裝平臺的旋鈕以每旋轉(zhuǎn)15~20圈移動1mm的距離調(diào)整光錐小端面與CCD芯片光敏面的距離。
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