[發(fā)明專利]用作電子傳輸層的氧化物薄膜的制備方法及其應用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810660498.2 | 申請日: | 2018-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN109037457A | 公開(公告)日: | 2018-12-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 曾文進;王惠平 | 申請(專利權(quán))人: | 南京郵電大學 |
| 主分類號: | H01L51/48 | 分類號: | H01L51/48;H01L51/00;H01L51/42 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 吳飛 |
| 地址: | 210023 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氧化物薄膜 密封容器 氧化物前驅(qū)體 電子傳輸層 襯底表面 溶劑 制備 誘導 水熱反應 旋涂 太陽能電池器件 襯底轉(zhuǎn)移 高溫高壓 光伏性能 水熱環(huán)境 溫度條件 制備晶型 超純水 粗糙度 滴加 可控 霧化 加熱 應用 配置 | ||
1.一種用作電子傳輸層的氧化物薄膜的制備方法,其特征在于,包括下述步驟:
1)配置氧化物前驅(qū)體溶液,攪拌均勻待用;
2)在襯底表面滴加氧化物前驅(qū)體溶液開始旋涂,旋涂結(jié)束后將襯底轉(zhuǎn)移至含有誘導溶劑超純水的密封容器中;
3)對密封容器加熱、使其內(nèi)部形成水熱環(huán)境,襯底表面發(fā)生水熱反應、形成氧化物薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用作電子傳輸層的氧化物薄膜的制備方法,其特征在于,所述氧化物薄膜為氧化鈦薄膜、氧化鋅薄膜、氧化錫薄膜、氧化鋯薄膜、或氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯中至少兩種氧化物形成的復合氧化物薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用作電子傳輸層的氧化物薄膜的制備方法,其特征在于,所述氧化物薄膜為氧化鈦薄膜,步驟1)中,以醇類為溶劑、稀酸為抑制劑、鈦酸四異丙酯為前驅(qū)體材料,配置氧化鈦前驅(qū)體溶液。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用作電子傳輸層的氧化物薄膜的制備方法,其特征在于,步驟3)中,將所述密封容器在120℃~220℃的溫度下加熱8~15h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用作電子傳輸層的氧化物薄膜的制備方法,其特征在于,步驟2)中,所述誘導溶劑的體積與密封容器的體積比為2~6:500。
6.一種鈣鈦礦太陽能電池,其自下而上包括襯底、電子傳輸層、鈣鈦礦活性層、空穴傳輸層和陰極層,所述襯底內(nèi)側(cè)具有陽極材料,其特征在于,所述電子傳輸層為權(quán)利要求1制備的氧化物薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述襯底材料為玻璃或柔性塑料,陽極材料為銦錫氧化物、氟錫氧化物、摻氟的SnO2或鋁鋅氧化物。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述空穴傳輸層材料選自2,2’,7,7’-四[N,N-二(4-甲氧基苯基)氨基]-9,9’-螺二芴、[9-(1-辛基壬基)-9H-咔唑-2,7-二基]-2,5-噻吩二基-2,1,3-苯并噻二唑-4,7-二基-2,5-噻吩二基、聚[雙(4-苯基)(2,4,6-三甲基苯基)胺]、碘化銅、硫氰酸銅中的一種或多種。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述鈣鈦礦活性層材料為ABX3型晶體結(jié)構(gòu)的有機-無機雜化鈣鈦礦材料,其中,A為甲胺基陽離子MA+或甲脒基陽離子FA+,B為Pb2+或Sn2+,X為Cl-,Br-或I-。
10.一種權(quán)利要求6所述的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括下述步驟:
1)準備襯底及陽極材料;
2)電子傳輸層的制備:配置氧化物前驅(qū)體溶液,攪拌均勻待用;在襯底表面滴加氧化物前驅(qū)體溶液開始旋涂,旋涂結(jié)束后將襯底轉(zhuǎn)移至含有誘導溶劑的密封容器中;對密封容器進行加熱,在襯底表面形成氧化物薄膜;
3)鈣鈦礦活性層的制備:配置鈣鈦礦活性層材料的溶液,在電子傳輸層上制備鈣鈦礦活性層薄膜;
4)空穴傳輸層的制備:配置空穴傳輸層材料的溶液,在鈣鈦礦活性層上旋涂得到空穴傳輸層;
5)陰極的制備:在空穴傳輸層上沉積導電金屬材料作為陰極。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
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H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
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