[發(fā)明專利]移動(dòng)體支承裝置、包含其的真空蒸鍍裝置及蒸鍍方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810657050.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109306452B | 公開(公告)日: | 2021-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 渡邊一弘;太田明;小野島升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能特機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司: | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 張寶榮 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 移動(dòng) 支承 裝置 包含 真空 方法 | ||
本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置,包括:真空腔室;移動(dòng)體,所述移動(dòng)體能夠移動(dòng)地設(shè)置在所述真空腔室內(nèi);及旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部,所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部配置在構(gòu)成所述真空腔室的面與所述移動(dòng)體之間,一端部連結(jié)于所述移動(dòng)體,另一端部能夠轉(zhuǎn)動(dòng)地連結(jié)于構(gòu)成所述真空腔室的面,且在沿著所述轉(zhuǎn)動(dòng)的軸的方向上能夠相對(duì)移動(dòng),構(gòu)成所述真空腔室的面具有開口,所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部具有通過(guò)所述開口而與所述真空腔室的外部連通的中空部分,所述真空蒸鍍裝置包括力賦予機(jī)構(gòu),所述力賦予機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部的所述另一端部側(cè),在沿著所述轉(zhuǎn)動(dòng)的軸的方向且從所述真空腔室的內(nèi)側(cè)朝向外側(cè)的方向上對(duì)所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部提供力。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對(duì)在真空腔室內(nèi)設(shè)置成能夠移動(dòng)的移動(dòng)體進(jìn)行支承的移動(dòng)體支承裝置、包含該移動(dòng)體支承裝置的真空蒸鍍裝置及蒸鍍方法。
背景技術(shù)
近年來(lái),作為平板顯示器,有機(jī)電場(chǎng)發(fā)光顯示器(OLED)備受關(guān)注。有機(jī)電場(chǎng)發(fā)光顯示器具有在2個(gè)相向的電極(陰極電極、陽(yáng)極電極)之間形成有產(chǎn)生發(fā)光的有機(jī)物層的基本構(gòu)造,有機(jī)電場(chǎng)發(fā)光顯示器的有機(jī)物層通過(guò)在減壓狀態(tài)的真空腔室內(nèi)使收容于蒸發(fā)源的蒸鍍物質(zhì)蒸發(fā)并蒸鍍于真空腔室內(nèi)的被蒸鍍體而形成。在有機(jī)物質(zhì)的蒸鍍所使用的這樣的真空蒸鍍裝置中,用于向真空腔室內(nèi)的包含蒸發(fā)源的蒸發(fā)源單元所包含的各種部件及裝置供給電源的配線及配管(用于使蒸發(fā)源冷卻的冷卻水配管等)被從真空腔室的外部連結(jié)。
因此,在現(xiàn)有技術(shù)中,在構(gòu)成真空腔室的底面與蒸發(fā)源單元之間設(shè)有大氣臂部。大氣臂部能夠轉(zhuǎn)動(dòng)地連結(jié)于構(gòu)成真空腔室的底面。大氣臂部的內(nèi)部為供各種配線及配管穿過(guò)的中空部,為了將該內(nèi)部維持成大氣壓狀態(tài),如專利文獻(xiàn)1公開的那樣,各連結(jié)部、即大氣臂部等移動(dòng)體與構(gòu)成真空腔室的底面間的連結(jié)部由對(duì)真空腔室內(nèi)部的真空進(jìn)行密封(seal)的磁性流體密封來(lái)連接。
【專利文獻(xiàn)1】韓國(guó)登記專利1665380
發(fā)明內(nèi)容
這樣,發(fā)揮作為對(duì)于蒸發(fā)源單元的旋轉(zhuǎn)移送部的功能和配線/配管的連結(jié)通路的功能的大氣臂等移動(dòng)體在內(nèi)部向大氣開放的狀態(tài)下被維持成大氣壓,通過(guò)磁性流體密封等密封構(gòu)件與維持成真空的外部的真空腔室進(jìn)行密封,并設(shè)有能夠旋轉(zhuǎn)地連結(jié)的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部。由于該真空腔室與移動(dòng)體的壓力差而存在未預(yù)期的旋轉(zhuǎn)力矩作用于旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部的情況。
在未預(yù)期的旋轉(zhuǎn)力矩作用于驅(qū)動(dòng)中的移動(dòng)體的情況下,可能會(huì)產(chǎn)生設(shè)置于旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部的密封構(gòu)件瞬間破壞的現(xiàn)象。磁性流體密封的破壞會(huì)招致維持成高真空狀態(tài)的真空腔室的瞬間的壓力上升,最終成為使原料物質(zhì)對(duì)被蒸鍍物的蒸鍍品質(zhì)下降的原因。
【課題的解決方案】
本發(fā)明的一形態(tài)的真空蒸鍍裝置的特征在于,包括:真空腔室;移動(dòng)體,所述移動(dòng)體能夠移動(dòng)地設(shè)置在所述真空腔室內(nèi);及旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部,所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部配置在構(gòu)成所述真空腔室的面與所述移動(dòng)體之間,一端部連結(jié)于所述移動(dòng)體,另一端部能夠轉(zhuǎn)動(dòng)地連結(jié)于構(gòu)成所述真空腔室的面,且在沿著所述轉(zhuǎn)動(dòng)的軸的方向上能夠相對(duì)移動(dòng),構(gòu)成所述真空腔室的面具有開口,所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部具有通過(guò)所述開口而與所述真空腔室的外部連通的中空部分,所述真空蒸鍍裝置包括力賦予機(jī)構(gòu),所述力賦予機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部的所述另一端部側(cè),在沿著所述轉(zhuǎn)動(dòng)的軸的方向且從所述真空腔室的內(nèi)側(cè)朝向外側(cè)的方向上對(duì)所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部提供力。
本發(fā)明的另一形態(tài)的真空蒸鍍裝置的特征在于,包括:真空腔室;移動(dòng)體,所述移動(dòng)體能夠移動(dòng)地設(shè)置在所述真空腔室內(nèi);及旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部,所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部配置在構(gòu)成所述真空腔室的面與所述移動(dòng)體之間,一端部連結(jié)于所述移動(dòng)體,另一端部能夠轉(zhuǎn)動(dòng)地連結(jié)于構(gòu)成所述真空腔室的面,且在沿著所述轉(zhuǎn)動(dòng)的軸的方向上能夠相對(duì)移動(dòng),構(gòu)成所述真空腔室的面具有開口,所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部具有通過(guò)所述開口而向大氣開放的中空部分,所述真空蒸鍍裝置包括力賦予機(jī)構(gòu),所述力賦予機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部的所述另一端部側(cè),對(duì)所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部提供與下述壓力相反方向的力,所述壓力是作用于與向大氣開放的所述開口相向的所述旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部的內(nèi)表面上的壓力。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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