[發(fā)明專利]一種手性光學器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810654947.2 | 申請日： | 2018-06-22 |
| 公開（公告）號： | CN109187363B | 公開（公告）日： | 2021-10-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 尹曉雪 | 申請（專利權）人： | 西安科銳盛創(chuàng)新科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/19 | 分類號： | G01N21/19 |
| 代理公司： | 西安嘉思特知識產權代理事務所(普通合伙) 61230 | 代理人： | 王海棟 |
| 地址： | 710065 陜西省西安市高新區(qū)高新路86號*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 手性 光學 器件 | ||
【權利要求書】：
1.一種手性光學器件，其特征在于，包括：基底和位于所述基底上的金屬膜；其中，
所述金屬膜上設置有若干個貫穿于所述金屬膜的上下表面且呈陣列排布的手性結構單元，所述手性結構單元包括：相鄰設置的基礎U型縫和增強C型縫；
其中，所述基礎U型縫和所述增強C型縫底部對齊，且所述基礎U型縫和所述增強C型縫的高度相同；
所述手性結構單元在所述金屬膜的橫向和縱向上都均勻排列。
2.如權利要求1所述的手性光學器件，其特征在于，所述手性結構單元沿水平方向排列的第一周期的取值范圍為400～1000nm。
3.如權利要求1所述的手性光學器件，其特征在于，所述手性結構單元沿垂直方向排列的第二周期的取值范圍為400～1000nm。
4.如權利要求1所述的手性光學器件，其特征在于，所述手性結構單元沿水平方向排列的第一周期和沿垂直方向排列的第二周期長度相同。
5.如權利要求1所述的手性光學器件，其特征在于，所述基底的材料為透光材料。
6.如權利要求1所述的手性光學器件，其特征在于，所述金屬膜的厚度取值范圍為20nm～100nm。
7.如權利要求1所述的手性光學器件，其特征在于，所述基礎U型縫與所述增強C型縫的間隔距離取值范圍為30nm～50nm。
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