[發(fā)明專利]一種手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810654946.8 | 申請日： | 2018-06-22 |
| 公開（公告）號： | CN109375305B | 公開（公告）日： | 2021-05-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 左瑜;冉文方 | 申請（專利權(quán)）人： | 西安科銳盛創(chuàng)新科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 西安嘉思特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61230 | 代理人： | 王海棟 |
| 地址： | 710065 陜西省西安市高新區(qū)高新路86號*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 手性 金屬 納米 薄膜 光學(xué) 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：金屬膜、以及位于所述金屬膜上的“U”型縫和橫縫，所述金屬膜的厚度取值范圍為20nm～100nm，所述橫縫為變形縫隙結(jié)構(gòu)，所述橫縫兩條長邊呈圓弧形，且任一長邊的圓心位于另一條長邊一側(cè)，所述橫縫的長度為180nm，所述橫縫寬度最寬的部分為40nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述“U”型縫包括左臂、右臂、下臂；所述左臂、所述右臂、所述下臂的長度取值范圍均為100nm～300nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述左臂、所述右臂、所述下臂的寬度均相等。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述左臂、所述右臂、所述下臂的寬度取值范圍均為20 nm～100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述“U”型縫與所述橫縫之間的間隔取值范圍為30nm～50nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬膜為AU薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手性金屬納米薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬膜為矩形結(jié)構(gòu)。
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