[發明專利]陣列基板及其制作方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201810652245.0
• 申請日: 2018-06-22
• 公開（公告）號: CN108803170B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 姚磊;史大為;王文濤;楊璐;徐海峰;閆雷;王金鋒;薛進進;閆芳;司曉文;候林;郭志軒;李元博;李曉芳
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;H01L27/12
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板，其特征在于，包括襯底基板以及設在所述襯底基板一側的多條柵線，所述柵線背向所述襯底基板的一側設有多條數據線；每條所述柵線包括多個由各所述數據線分隔形成的柵線子段；每條所述柵線與所述襯底基板之間均設有多個遮光金屬部；其中，

每相鄰的兩個所述柵線子段與一個所述遮光金屬部對應，且每相鄰的兩個所述柵線子段通過對應的所述遮光金屬部串聯；

所述柵線與所述數據線之間設有層間絕緣層；所述柵線的各所述柵線子段與對應的所述遮光金屬部之間設有柵絕緣層和/或緩沖層； 所述柵線子段在所述襯底基板的正投影，與對應的所述遮光金屬部在所述襯底基板的正投影部分重疊；

所述遮光金屬部在所述襯底基板的正投影，與用于分隔形成對應的所述柵線子段的數據線在所述襯底基板的正投影交叉；

每條所述數據線與所述襯底基板之間均設有多個柵線浮置段；每個所述柵線浮置段均設在相鄰的兩個所述柵線子段之間，且與對應的兩個所述柵線子段同層絕緣。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述襯底基板上設有薄膜晶體管陣列；所述薄膜晶體管的源漏極與所述數據線同層設置；所述薄膜晶體管的柵極與所述柵線同層設置，且一行所述薄膜晶體管的柵極與一條所述柵線對應；

每個所述柵極與所述襯底基板之間均設有與對應的所述柵線相連的遮光金屬部，且每個所述柵極分別與對應的所述遮光金屬部相連。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述源漏極與所述柵極之間設有層間絕緣層；所述柵極與所述遮光金屬部之間依次設有柵絕緣層、有源層和緩沖層。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述遮光金屬部的制作材料與所述柵線的制作材料相同。

5.一種如權利要求1-4中任一項所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一襯底基板，在所述襯底基板的一側形成多個遮光金屬部；

在所述遮光金屬部背向所述襯底基板的一側形成多條柵線；其中，每條所述柵線包括多個柵線子段；每相鄰的兩個所述柵線子段與一個所述遮光金屬部對應，且每相鄰的兩個所述柵線子段通過對應的所述遮光金屬部串聯；

在所述柵線背向所述遮光金屬部的一側形成多條數據線；每相鄰的兩個所述柵線子段分別位于一條數據線的兩側。

6.根據權利要求5所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述遮光金屬部背向所述襯底基板的一側形成多條柵線的步驟，包括：在所述遮光金屬部背向所述襯底基板的表面依次形成緩沖層和柵絕緣層，并通過構圖工藝在所述緩沖層和所述柵絕緣層上形成多個過孔；

在所述柵絕緣層背向所述遮光金屬部的表面形成多條所述柵線，每條所述柵線中的各所述柵線子段分別通過所述過孔與對應的遮光金屬部串聯；

所述在所述柵線背向所述遮光金屬部的一側形成多條數據線的步驟，包括：

在所述柵線背向所述遮光金屬部的表面形成層間絕緣層；

在所述層間絕緣層背向所述柵線的表面形成多條所述數據線。

7.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1-4任一項所述的陣列基板。